[发明专利]具有最小化膨胀、起皱或撕裂的铜箔,包括其的电极,包括其的二次电池,及其制造方法有效
申请号: | 201811032829.4 | 申请日: | 2018-09-05 |
公开(公告)号: | CN110880602B | 公开(公告)日: | 2023-04-07 |
发明(设计)人: | 金星玟;李廷吉 | 申请(专利权)人: | SK纳力世有限公司 |
主分类号: | H01M4/66 | 分类号: | H01M4/66;H01M4/70;H01M4/131;H01M4/133;H01M4/134;H01M10/058 |
代理公司: | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人: | 于磊;张福根 |
地址: | 韩国全*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 最小化 膨胀 起皱 撕裂 铜箔 包括 电极 二次 电池 及其 制造 方法 | ||
1.一种铜箔,其包括铜层,并且其抗拉强度为29至65kgf/mm2,粗糙度轮廓单元的平均宽度为18至148μm,织构系数偏误[TCB(220)]为0.52或更小,
其中织构系数偏误[TCB(220)]根据下面的等式1来计算:
[等式1]
[TCB(220)]=TCmax–TCmin
在铜箔的宽度方向上的左侧、中间和右侧各自的点处测量三次[TCB(220)],最高的[TC(220)]值用TCmax表示,最低的[TC(220)]值用TCmin表示。
2.根据权利要求1所述的铜箔,其还包括设置在所述铜层上的防腐蚀膜。
3.根据权利要求2所述的铜箔,其中所述防腐蚀膜包括铬、硅烷化合物和氮化合物中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的铜箔,其中所述铜箔的最大高度粗糙度为0.6μm或更大。
5.根据权利要求1所述的铜箔,其中所述铜箔的重量偏差为5%或更小。
6.根据权利要求1所述的铜箔,其中所述铜箔在25±15℃的室温下具有2%或更高的伸长率。
7.根据权利要求1所述的铜箔,其中所述铜箔的厚度为4μm至30μm。
8.一种用于二次电池的电极,其包括:
根据权利要求1至7中任一项所述的铜箔;和
设置在所述铜箔上的活性材料层。
9.一种二次电池,其包括:
阴极;
面对阴极的阳极;
设置在所述阴极和所述阳极之间的电解液,用于提供使离子能够移动的环境;和
分隔物,用于使所述阴极与所述阳极电绝缘,
其中所述阳极包括:
根据权利要求1至7中任一项所述的铜箔;和
设置在所述铜箔上的活性材料层。
10.一种柔性铜箔层压膜,其包括:
聚合物膜;和
设置在所述聚合物膜上的根据权利要求1至7中任一项所述的铜箔。
11.一种用于制造铜箔的方法,其包括将30至80A/dm2的电流密度施加到在含有铜离子的电解液中彼此隔开的电极板和旋转电极鼓以形成铜层,
其中所述电解液包含:
70至100g/L的铜离子;
80至130g/L的硫酸;
2至20mg/L的2-巯基噻唑啉;
2至20mg/L的双-(3-磺丙基)二硫化物;和
50mg/L或更少的聚乙二醇。
12.根据权利要求11所述的方法,其中所述电解液包含10至30mg/L的氯。
13.根据权利要求11所述的方法,其中所述电解液的每秒流速偏差为5%或更小。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于SK纳力世有限公司,未经SK纳力世有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811032829.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。