[发明专利]两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮有效

专利信息
申请号: 201811032707.5 申请日: 2018-09-05
公开(公告)号: CN109454548B 公开(公告)日: 2021-02-23
发明(设计)人: 田中敬;杉山将贵 申请(专利权)人: 创技股份有限公司
主分类号: B24B37/28 分类号: B24B37/28;B24B57/02
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李婷;刘林华
地址: 日本神*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 两面 研磨 装置 保持 游星
【说明书】:

本发明提供一种被研磨物保持用游星轮,该被研磨物保持用游星轮是两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮,用于获得具有精密的上下面粗糙度、并且具有优良的平行度、优良的平坦度的被研磨物。利用下述两面研磨装置用的被研磨物保持用游星轮解决问题,该被研磨物保持用游星轮具有一个或者一个以上用于保持被研磨物的保持孔,其特征在于,在比假想同心圆靠内侧的游星轮基材上穿孔多个小孔,并且在比前述假想同心圆靠外侧的游星轮基材上穿孔多个具有比前述小孔大的直径的小孔,该假想同心圆与用于保持被研磨物的保持孔具有相同的中心,并且以具有比该保持孔的半径大的半径的方式描绘。

技术领域

本发明涉及一种被研磨物保持用游星轮,该被研磨物保持用游星轮用于两面研磨装置,该两面研磨装置一边将被研磨物夹持并压接在粘贴了研磨布的上下定盘之间,一边使该上下定盘以及该被研磨物中的至少一个旋转从而同时研磨加工该被研磨物的两面,其中,该被研磨物保持用游星轮在被研磨物保持孔的周围设置有研磨剂通过用的小孔。

背景技术

在由硅晶圆、化合物半导体晶圆、铝制磁性硬盘基板、玻璃制磁性硬盘基板或者光罩用玻璃、水晶震荡子、陶瓷等构成的被研磨物的两面研磨加工中,被研磨物被保持于被研磨物保持用游星轮的保持孔中,该被研磨物保持用游星轮具有与被研磨物的形状对应的保持孔并且以在其外周缘部具有与两面研磨装置的内齿轮和太阳齿轮啮合的外周齿的方式成型,被研磨物借助内齿轮和太阳齿轮的旋转以进行行星运动的方式旋转,与此同时通过旋转驱动上下定盘,同时研磨加工被研磨物的上下两面。该被研磨物保持用游星轮被用作下述研磨装置的部件,该研磨装置的部件用于对被研磨物两面同时地进行研磨加工、镜面研磨加工。

以往被研磨物保持用游星轮通常按照以下方法进行制造:使用铁或者不锈钢等金属材料、纤维强化树脂(FRP)等作为材料,将被研磨物保持用游星轮加工成具有能够保持被研磨物的大小的保持孔,进而将其外周加工成具有与内齿轮以及太阳齿轮的齿轮形状啮合的外周齿。

在上述的研磨加工中,在研磨加工中研磨液从形成于上定盘的研磨液供给孔供给至加工部,从保持孔的间隙也进入到下定盘侧,从而同时对被研磨物的上下两面进行研磨加工。然而,在使用在被研磨物保持用游星轮上穿孔的孔仅为被研磨物保持孔那样的被研磨物保持用游星轮的情况下,成为被研磨物保持用游星轮以及被研磨物覆盖下定盘的几乎整面的方式,因此研磨液向下定盘侧的绕入不充分,难以进行均匀的加工。因此,被指出发生了以下不被期待的现象:加工后的被研磨物的形状呈锥形状、产生外周塌边、产生精加工面粗糙度的偏差或者上下面的面粗糙度不同等。而且,由于研磨液因伴随旋转而产生的离心力容易在充分用于研磨加工之前被排出到系统外部,因此该浪费多的问题也被指出。

特别是近年来,被研磨物的制造技术不断进步,因此关于上述的被研磨物保持用游星轮的问题变得更加显著,强烈需要其解决方案。

为了避免上述现象的产生,以往提出了以下方案:在保持孔以外的部位穿孔工艺孔(还称作工艺洞),将其作为研磨液通过孔,使研磨液向下定盘侧的绕入顺畅(专利文献1或专利文献2)。

此外,在专利文献3中公开了以下方法:在被研磨物保持用游星轮的保持孔以外的区域中设置网状的空隙部分,改善研磨液向下定盘侧的绕入,防止加工后的被研磨物的起伏现象。

在专利文献4中提出了以下被研磨物保持用游星轮:通过限定研磨液通过孔的直径、研磨液通过孔彼此的间隔,抑制被研磨物保持用游星轮的位移量从而使得不会发生歪斜。

专利文献

专利文献1:日本特开平11-170164号公报

专利文献2:日本特开2004-291115号公报

专利文献3:日本特开2000-84835号公报

专利文献4:日本特开2016-22542号公报。

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