[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示面板及显示装置

权利要求书

1.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在衬底上通过构图工艺形成阳极；

形成无机绝缘层，所述无机绝缘层覆盖所述阳极；

在所述无机绝缘层上通过构图工艺形成像素界定层，所述像素界定层的开口区域在所述阳极上的正投影位于所述阳极所在的区域内；

去除位于所述像素界定层的开口区域内的所述阳极上的无机绝缘层；

在所述像素界定层的开口区域内的所述阳极上依次形成发光层和阴极；

采用湿法刻蚀工艺去除位于所述像素界定层的开口区域内的所述阳极上的无机绝缘层；

其中，所述湿法刻蚀工艺对应的刻蚀量，大于所述无机绝缘层上不存在颗粒物时所述无机绝缘层对应的刻蚀量。

2.根据权利要求1所述的制作方法，其特征在于，所述无机绝缘层采用等离子体增强化学气相沉积工艺形成。

3.一种显示基板，其特征在于，包括：

衬底；

形成在所述衬底上的阳极；

形成在所述阳极上的无机绝缘层；

形成在所述无机绝缘层上的像素界定层；

其中，所述像素界定层的开口区域在所述阳极上的正投影位于所述阳极所在的区域内，且所述像素界定层的开口区域在所述阳极上的正投影与所述无机绝缘层在所述阳极上的正投影不交叠；

形成在所述像素界定层的开口区域内的所述阳极上的发光层和阴极；其中，所述发光层靠近所述阳极；

其中，位于所述像素界定层的开口区域内的所述阳极上的无机绝缘层是采用湿法刻蚀工艺去除的；所述湿法刻蚀工艺对应的刻蚀量，大于所述无机绝缘层上不存在颗粒物时所述无机绝缘层对应的刻蚀量。

4.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述无机绝缘层的材料为氧化铝、氮化硅或氧化硅。

5.根据权利要求3所述的显示基板，其特征在于，所述无机绝缘层的厚度为至

6.一种显示面板，其特征在于，包括如权利要求3-5中任一项所述的显示基板。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求6所述的显示面板。