[发明专利]一种光波导传输损耗测量方法有效

专利信息
申请号: 201811010587.9 申请日: 2018-08-31
公开(公告)号: CN109387356B 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 顾晓文;周奉杰;牛斌 申请(专利权)人: 中国电子科技集团公司第五十五研究所
主分类号: G01M11/02 分类号: G01M11/02
代理公司: 南京君陶专利商标代理有限公司 32215 代理人: 沈根水
地址: 210016 *** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 波导 传输 损耗 测量方法
【说明书】:

发明涉及一种光波导传输损耗测量方法,包括如下步骤:1)宽谱光源输出耦合到第一条光波导中,光波导传输后,通过光波导芯片耦合输出到高精度光谱仪中,光谱仪测得第一条F‑P谐振器干涉条纹;2)宽谱光源输出耦合到第二条不同长度的光波导中,光波导传输后,通过光波导芯片耦合输出到高精度光谱仪中,光谱仪测得第二条F‑P谐振器干涉条纹;3)根据两条F‑P谐振器干涉条纹,利用光波导传输损耗与干涉条纹的关系式计算光波导的传输损耗。优点:通过测量两段不同长度光波导的F‑P腔谐振条纹计算光波导传输损耗,无需知道波导端面或者光栅的反射率绝对值,即可计算光波导准确的传输损耗。并可同时满足端面耦合波导与垂直光栅耦合光波导的传输损耗测量。

技术领域

本发明是一种光波导传输损耗测量方法,属于集成光子器件技术领域。

背景技术

在集成光子器件中,光波导是构造光子集成器件与芯片的最基本结构,是进一步构成其他无源、有源光子、光电子器件,例如分束/合束器、阵列波导光栅、马赫曾德尔干涉仪、微环谐振器、调制器、光开关等的基本构成单元。光波导的基本功能是实现光波的低损耗、低畸变传输,其传输损耗是最重要的指标,决定了集成光子器件的性能。

光波导的光传输损耗机制主要包括:1)波导粗糙侧壁的光散射;2)波导衬底光泄漏损耗;3)波导材料吸收损耗;4)波导弯曲辐射损耗。光波导传输损耗的测量对于评价波导的加工质量、定量分析损耗的起源都具有重要意义。测量波导传输损耗的方法多种多样,有截断法、法布里珀罗(F-P)谐振腔干涉分析法、傅里叶变换法、多次反射法、波导侧向散射光收集法、棱镜耦合法等,目前最常用的方法是截断法和F-P谐振腔干涉分析法,其他方法由于测试精度欠佳或实验装置复杂而极少被采用。其中截断法需要制备多条不同长度的光波导,利用波导长度与总体插入损耗的线性关系,得出待测波导单位长度的传输损耗,由于每段波导存在耦合效率的差别,导致获得的数值不够准确。F-P谐振器干涉分析法则需要知道耦合区的反射系数,一般地,该反射系数由经验公式推出,故而获得的传输损耗数值存在一定的偏差。

发明内容

本发明提出的是一种光波导传输损耗测试方法,其目的旨在解决传统波导传输损耗测试方法测试不够准确的问题,提出一种改进的F-P腔对比分析法,通过测量两段不同长度光波导的F-P腔谐振条纹,计算得到光波导准确的传输损耗,无需知道波导端面或者光栅的反射系数绝对值,该方法可满足端面耦合波导与垂直光栅耦合光波导的传输损耗测量。

本发明的技术解决方案:一种光波导传输损耗测量方法,包括如下步骤:

1)宽谱光源输出耦合到第一条光波导中,光波导传输后,通过光波导芯片耦合输出到高精度光谱仪中,光谱仪测得所形成的第一条F-P谐振器干涉条纹;

2)宽谱光源输出耦合到第二条不同长度的光波导中,光波导传输后,通过光波导芯片耦合输出到高精度光谱仪中,光谱仪测得所形成的第二条F-P谐振器干涉条纹;

3)根据测量得到的两条F-P谐振器干涉条纹,利用光波导传输损耗与干涉条纹的关系公式,计算出光波导的传输损耗。

本发明的有益效果:

1)通过测量两段不同长度光波导的F-P腔谐振条纹计算光波导传输损耗,无需知道波导端面或者光栅的反射率绝对值,即可计算光波导准确的传输损耗。

2)可同时满足端面耦合波导与垂直光栅耦合光波导的传输损耗测量,计算简便、准确。

附图说明

附图1是光波导传输损耗测量方法示意图。

附图2是光波导F-P谐振腔示意图。

图中1是宽谱光源、2是光波导芯片、3是高精度光谱仪、4是光纤、5是耦合输入口、6是耦合输出口、7是第一条光波导、8是第二条光波导。

具体实施方式

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国电子科技集团公司第五十五研究所,未经中国电子科技集团公司第五十五研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201811010587.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top