[发明专利]一种噁二唑取代的含氧螺芴有机材料、制备方法及OLED器件

权利要求书

1.一种噁二唑取代的含氧螺芴有机材料，其特征在于，所述噁二唑取代的含氧螺芴有机材料为如下结构中的任意一种：

2.根据权利要求1所述的有机材料，其特征在于，所述噁二唑取代的含氧螺芴有机材料的结构为

3.根据权利要求1或2所述的噁二唑取代的含氧螺芴有机材料的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：将2,2',7,7'-四溴螺[芴-9,9'-氧杂蒽]与式II化合物经过铃木反应得到所述噁二唑取代的含氧螺芴有机材料，其中，式II化合物包括式II-1～II-20化合物中的至少一种，反应式分别如下：

4.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应在催化剂和缚酸剂存在的条件下进行。

5.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述催化剂为四(三苯基膦)钯。

6.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述催化剂与2,2',7,7'-四溴螺[芴-9,9'-氧杂蒽]的摩尔比为(0.004～0.55):1。

7.根据权利要求4所述的制备方法，其特征在于，所述缚酸剂为磷酸钾、碳酸钾、碳酸铯、碳酸钠或碳酸氢钠中的任意一种或至少两种的组合。

8.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述2,2',7,7'-四溴螺[芴-9,9'-氧杂蒽]与式II化合物的摩尔比为1:(4.3～14)。

9.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应在保护性气体保护下进行。

10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述保护性气体为氮气、氩气或氦气中的任意一种。

11.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应在避光的条件下进行。

12.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应的溶剂包括四氢呋喃、1,4-二氧六环、乙二醇二甲醚或甲苯中的任意一种或至少两种的组合。

13.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应的温度为75～140℃。

14.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述铃木反应的时间为18～35h。

15.根据权利要求3所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括如下步骤：将摩尔比为1:(4.3～14)的2,2',7,7'-四溴螺[芴-9,9'-氧杂蒽]与式II化合物，在催化剂、缚酸剂存在下，保护性气体保护下，在75～140℃、避光条件下进行铃木反应18～35h得到所述噁二唑取代的含氧螺芴有机材料。

16.一种OLED器件，由上至下依次包括阳极、空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和阴极，其特征在于，所述电子传输层由权利要求1或2所述的噁二唑取代的含氧螺芴有机材料与锂喹啉配合物制备而成。