[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

说明书

本发明提供一种基板处理装置与方法，对基板实施使用处理液的处理，包括：基板保持单元，有自旋底座，并用以保持基板；隔断构件，有与由基板保持单元保持的基板的上表面相向的基板相向面，并有比自旋底座大的直径；隔断构件升降单元，使隔断构件在隔断位置与退避位置间升降，隔断位置是将基板相向面与上表面间的空间从上表面上的侧方隔断的位置，退避位置是从隔断位置向上方退避的位置，且空间未从上表面上的侧方被隔断；以及多个防护板，包括环绕在基板保持单元周围的筒状内侧防护板、及环绕在内侧防护板周围的筒状外侧防护板，多个防护板用以捕获从基板与隔断构件之间排出的处理液，外侧防护板的内周端相较于内侧防护板的内周端而位于径向外侧。

技术领域

本发明涉及一种基板处理装置及基板处理方法。在作为处理对象的基板中，例如包括半导体晶片、液晶显示装置用基板、有机电致发光(electroluminescence，EL)显示装置等平板显示器(Flat Panel Display，FPD)用基板、光盘用基板、磁盘用基板、光磁盘用基板、光掩膜用基板、陶瓷基板、太阳能电池用基板等。

背景技术

在半导体装置的制造工序中，为了对半导体晶片等基板的表面实施使用药液等处理液的处理，有时使用对基板逐片进行处理的单片式基板处理装置。此单片式的基板处理装置在腔室内例如包括：使基板保持为大致水平并旋转的自旋夹头(spin chuck)、用于对通过此自旋夹头而旋转的基板供给处理液的喷嘴、在接近由自旋夹头保持的基板的表面(上表面)的位置相向配置的隔断构件、以及用于捕获从基板排出的处理液并进行排液的处理杯(cup)。

如美国专利申请公开第2016/045938A1号公报所示，处理杯具备多个防护板(guard)。各防护板包括环绕在自旋夹头周围的圆筒状的引导部、以及从引导部的上端向中心侧朝斜上方延伸的圆筒状的倾斜部。各倾斜部的上端构成为各防护板的内周端，并具有比基板与自旋底座大的直径。各防护板的内周端在径向上一致。

另外，在美国专利申请公开第2017/186599A1号公报的基板处理装置的基板处理例中，一面将隔断构件配置于从基板的表面向上方退避的退避位置，一面从配置于隔断构件与基板的上表面之间的喷嘴喷出药液，由此进行药液处理。同样地，一面将隔断构件配置于退避位置，一面从配置于隔断构件与基板的上表面之间的喷嘴喷出冲洗液，由此进行冲洗处理。

冲洗处理后，使隔断构件接近基板的表面。在此状态下，使自旋夹头与隔断构件沿同一方向旋转。由此，将附着于基板表面的冲洗液甩掉并去除(干燥)。

另外，美国专利申请公开第2015/234296A1号公报的隔断构件中，为了更有效地将基板上方的上方空间与上方空间的侧方空间隔断而具备配置于由自旋夹头保持的基板上方的圆板部、以及从与圆板部的周缘下垂的圆筒部。即，此隔断构件包括：与由自旋夹头保持的基板的上表面相向的基板相向面、以及与由自旋夹头保持的基板的外周端相向的内周面。

发明内容

本申请发明人等对使用美国专利申请公开第2015/234296A1号公报的隔断构件来实施下述专利文献2的基板处理例进行了研究。

即，对于具有圆板部与圆筒部的隔断构件，一面将隔断构件配置于从基板的表面向上方退避的退避位置，一面从配置于隔断构件与基板的上表面之间的喷嘴喷出处理液(药液或冲洗液)，由此进行药液处理或冲洗处理。此时，使多个防护板中的一个防护板(退避位置用防护板)与基板的周端面相向。利用退避位置用防护板来捕获从基板的周缘部排出的处理液。

冲洗处理后，使隔断构件接近基板的表面。另外，使与退避位置用防护板不同的防护板(隔断位置用防护板)与隔断构件的圆筒部的下端部相向。在该状态下使基板干燥。利用隔断位置用防护板来捕获从隔断构件的圆筒部的下端部排出的处理液。

所述情况下，存在如下问题。即，美国专利申请公开第2015/234296A1号公报的隔断构件由于具有对内周面进行划分的圆筒部，因此被设置成比自旋底座大的直径。在使用这种大直径的隔断构件的情况下，为了避免与防护板的内周端的干扰，需要扩大各防护板的内径。