[发明专利]基板处理装置及基板处理方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，用于对基板实施使用处理液的处理，所述基板处理装置包括：

基板保持单元，具有自旋底座，并用以保持所述基板；

隔断构件，具有与由所述基板保持单元保持的所述基板的上表面相向的基板相向面，并具有比所述自旋底座大的直径；

隔断构件升降单元，使所述隔断构件在隔断位置与退避位置之间升降，其中，所述隔断位置是将所述基板相向面与所述上表面之间的空间从所述上表面上的侧方隔断的位置，所述退避位置是从所述隔断位置向上方退避的位置，且所述空间未从所述上表面上的侧方被隔断；以及

多个防护板，包括环绕在所述基板保持单元周围的内侧防护板、以及环绕在所述内侧防护板周围的外侧防护板，所述多个防护板用以捕获从所述基板与所述隔断构件之间排出的处理液，所述内侧防护板和所述外侧防护板为筒状，

其中所述外侧防护板的内周端相较于所述内侧防护板的内周端而位于径向外侧，

所述隔断构件包括圆板部以及从所述圆板部的外周部向下方延伸的圆筒部，

所述外侧防护板的内周端的直径大于所述圆筒部的外径，所述内侧防护板的内周端的直径等于或小于所述圆筒部的外径。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其中所述隔断构件还包含与由所述基板保持单元保持的所述基板的周端相向的内周面。

3.根据权利要求1或2所述的基板处理装置，其中所述内侧防护板及所述外侧防护板分别具备随着朝向径向内侧而朝向上方的倾斜部，且

所述外侧防护板的所述倾斜部相较于所述内侧防护板的所述倾斜部而被配置于上方，且各所述倾斜部的上端形成为所述内侧防护板和所述外侧防护板的内周端。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置，还包括：

旋转单元，用以使由所述基板保持单元保持的所述基板围绕规定的旋转轴线旋转；

防护板升降单元，使所述多个防护板中的至少一者升降；及

控制装置，控制所述隔断构件升降单元、所述旋转单元及所述防护板升降单元，且

所述控制装置执行

第一处理工序，在利用所述隔断构件升降单元将所述隔断构件配置于所述退避位置、且利用所述防护板升降单元将所述多个防护板中的所述内侧防护板配置成与所述基板的周端面相向的状态下，利用所述旋转单元使所述基板围绕所述旋转轴线旋转；及

第二处理工序，在利用所述隔断构件升降单元将所述隔断构件配置于所述隔断位置、且利用所述防护板升降单元将所述多个防护板中的所述外侧防护板配置成与所述基板的周端面相向的状态下，利用所述旋转单元使所述基板围绕所述旋转轴线旋转。

5.根据权利要求4所述的基板处理装置，还包括：

第一喷嘴，具有设置于所述隔断构件外侧的第一处理液喷出口；及

第一处理液单元，对所述第一喷嘴供给第一处理液，

其中所述控制装置在所述第一处理工序中还执行利用所述第一处理液单元将第一处理液从所述第一处理液喷出口朝所述基板的所述上表面喷出的工序。

6.根据权利要求4或5所述的基板处理装置，还包括：

第二喷嘴，具有开口于所述基板相向面的第二处理液喷出口；及

第二处理液单元，对所述第二喷嘴供给第二处理液，

其中所述控制装置在所述第二处理工序中还执行利用所述第二处理液单元将所述第二处理液从所述第二处理液喷出口朝所述基板的所述上表面喷出的工序。