[发明专利]一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备

说明书

本发明属于镀膜技术领域，具体的说是一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备，包括外壳体、内壳体、工作台、靶材、电机、旋转轴、一号轴承、固定环、永磁铁、转动杆、推力轴承、环形磁铁、弹簧、挡板、磁性隔离模块，本发明通过在旋转轴上端的圆柱面上设置一组永磁铁，在固定环的上下端各设置一个推力轴承，在固定环的内侧圆柱面上设置一组永磁铁，在旋转轴上端与固定环之间设置磁性隔离模块，通过磁性隔离模块实现转动杆上的环形磁铁不断进行往复运动，进而使得加载到靶材上的磁场变得均匀，保证了靶材能够均匀的消耗，避免了靶材的浪费，同时使得待镀工件的镀层变得均匀，进而保证了镀件的质量。

技术领域

本发明属于镀膜技术领域，具体的说是一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备。

背景技术

溅镀是一种物理气相沉积技术，溅镀原理是在真空环境下，利用辉光放电或离子束产生的高能等离子体撞击耙材，以动量转移方式将耙材内的原子从耙材上轰击出来而沉积在基板上形成薄膜。由于溅镀可以达成较佳的沉积效率、精确的成份控制，以及较低的制造成本，因此已广泛应用于工业中各种金属和非金属膜层的制作。

圆柱式磁控溅镀装置一般包括圆筒状外壳、一个置于该圆筒状外壳内的圆柱筒状靶材及一个置于该圆柱筒状靶材内的磁铁组。该磁铁组一般由多个独立的磁铁组成，该磁铁组形成一个叠加磁场。由于多个磁铁间彼此独立，该叠加磁场在该靶材表面的分布一般都不均匀。溅镀时，靶材表面磁场强度高的区域电子集中度较高，该部分靶材被轰击的频率因此也较高。反复使用后，该部分靶材相对于其它磁场强度低部分的靶材消耗较多。当该部分靶材耗净，需更换靶材时，其它部分却还剩有靶材，靶材利用率低。

发明内容

为了弥补现有技术的不足，本发明提出的一种利用高能等离子体轰击工件表面并形成光滑镀层的设备，通过在旋转轴上端的圆柱面上设置一组永磁铁，在固定环的上下端各设置一个推力轴承，在固定环的内侧圆柱面上设置一组永磁铁，在旋转轴上端与固定环之间设置磁性隔离模块，通过磁性隔离模块实现转动杆上的环形磁铁不断进行往复运动，进而使得加载到靶材上的磁场变得均匀，保证了靶材能够均匀的消耗，避免了靶材的浪费，同时使得待镀工件的镀层变得均匀，进而保证了镀件的质量。