[发明专利]一种用于浮动微调平台的双向微调系统在审

专利信息
申请号: 201810984363.1 申请日: 2018-08-28
公开(公告)号: CN110860809A 公开(公告)日: 2020-03-06
发明(设计)人: 刘建军 申请(专利权)人: 武汉斯利沃激光器技术有限公司
主分类号: B23K26/70 分类号: B23K26/70;B24B41/02;B23Q1/26
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 430012 湖北省武汉市*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 浮动 微调 平台 双向 系统
【说明书】:

发明提供一种用于浮动微调平台的双向微调系统,应用于机械二微进给工作台上,所述双向微调系统包括浮动微调平台的双向铰链结构、铰链延长轴,所述双向微调系统包括铰链转页、角度偏摆力臂,且均按其对应位置各自均装设在机械二微进给工作台和机座之间,所述双向微调系统使机械二微进给工作台和机座之间,处于一种浮动连接状态,使浮动微调平台具有X、Y两个方向角度微调的自由度。

技术领域

本发明涉及一种激光切割打磨设备,尤其涉及一种用于浮动微调平台的双向微调系统。

背景技术

目前国内通用小进给量(适于200mm)的机械二微进给工作台,其精度等级可在±0.02mm。但常用数控系统加工制作光学元器件时,显现出其在微量调节中,很难提供光学元器件要求的小角度偏移加工的工作需求。其微调小角度为小于±0.64°,若想准确的微调指示光斑到靶心,机械二微进给工作台就很难实现,更不可能实现连续不间断的微量调整。

传统机械二微进给工作台的应用范围很广。用于机械加工制造和数控机床的机械二微进给工作台的通用结构,均为二微进给系统(动系)固定在机座(静系)上,系统的二微方向正交互为90°,而通常光学加工中广泛应用的用氦氖激光为指示光的自准直法,存在着一个约为9°的偏斜角。若不能微量角度调整的,就会直接反应到被加工件玻璃激光管上形成加工件的误差。

发明内容

为解决的上述技术问题,本发明的目的在于提供一种结构简单,微调精度高,能连续调整被加工元器件微小角度的精密双向微调系统,更方便于光学元器件自准直法微小角度变化的调整。

为实现上述目的,本发明提供一种用于浮动微调平台的双向微调系统,其包括浮动微调平台的双向铰链结构,铰链延长轴。所述的微调装置的铰链转页、角度偏摆力臂,均按其对应位置各自装设在机械二微进给工作台和机座之间,装设双向微调系统后,使机械二微进给工作台和机座之间,处于一种浮动连接状态,使机械二微进给工作台具有X、Y两个方向角度微调的自由度。

在上述方案的基础上优选,所述的双向铰链结构,连接于二微进给工作台和机座之间,双向铰链的纵轴套铰链转页装设在机座上,铰链的另一片转页装设在浮动微调平台侧面。可使二微进给工作台对机座作二维角度的微量转动,包括X轴向、Y轴向,起到双向旋转支点的作用。

在上述方案的基础上优选,所述的铰链延长轴是分离于双向铰链,又和双向铰链横轴共轴线的长轴。铰链延长轴线接触于浮动微调平台下表面,固定于机座之上。因为其仅线接触于浮动微调平台下表面的一边,这样在远离铰链延长轴另一边的平台下表面,设置一球形支点升降起伏,就可使浮动微调平台成俯仰角的微量调整。

在上述方案的基础上优选,所述的铰链延长轴和远离延长轴的球形支点形成一个浮动支承面。在远离双铰链纵轴的浮动微调平台的侧面,设置一球形微量调节点,就可使浮动微调平台成左右偏角的微量调整。

附图说明

图1用于浮动微调平台的双向微调系统结构图;

图2用于浮动微调平台的双向微调系统俯视图;

图3双铰链结构图一;

图4双铰链结构图二。

具体实施方式

如图1所示,本发明提供一种用于浮动微调平台的双向微调系统,包括浮动微调平台的双向铰链结构,铰链横轴延伸轴。所述的微调装置的铰链转页、角度偏摆力臂,均按其对应位置各自装设在机械二微进给工作台和机座之间,其特征在于装设精密双向微调系统后,使机械二微进给工作台和机座之间,处于一种浮动连接状态,使二微进给工作台具有X、Y两个方向角度微调的自由度。

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