[发明专利]一种用于浮动微调平台的双向微调系统在审
申请号: | 201810984363.1 | 申请日: | 2018-08-28 |
公开(公告)号: | CN110860809A | 公开(公告)日: | 2020-03-06 |
发明(设计)人: | 刘建军 | 申请(专利权)人: | 武汉斯利沃激光器技术有限公司 |
主分类号: | B23K26/70 | 分类号: | B23K26/70;B24B41/02;B23Q1/26 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 430012 湖北省武汉市*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 用于 浮动 微调 平台 双向 系统 | ||
1.一种用于浮动微调平台的双向微调系统,应用于机械二微进给工作台上,其特征在于,所述双向微调系统包括浮动微调平台的双向铰链结构、铰链延长轴,所述双向微调系统包括铰链转页、角度偏摆力臂,且均按其对应位置各自均装设在机械二微进给工作台和机座之间,所述双向微调系统使机械二微进给工作台和机座之间,处于一种浮动连接状态,使浮动微调平台具有X、Y两个方向角度微调的自由度。
2.根据权利要求1所述的一种用于浮动微调平台的双向微调系统,其特征在于:双向铰链结构的纵轴套铰链转页装设在机座上,铰链的另一片转页装设在浮动微调平台侧面,可使浮动微调平台对机座作二维角度的微量转动,包括X轴向、Y轴向,起到双向旋转支点的作用。
3.如权利要求1所述的一种用于浮动微调平台的双向微调系统,其特征在于:所述的X轴向左右偏角微调装置,连接于浮动微调平台侧面的一个球形微量调节点,就可使浮动微调平台成左右偏角的微量调整。
4.如权利要求1所述的一种用于浮动微调平台的双向微调系统,其特征在于:所述的Y轴向俯仰角微调装置,铰链延长轴仅线接触于浮动微调平台下表面的一边,这样在远离铰链延长轴另一边的浮动微调平台下表面,设置一球形支点升降起伏,就可使浮动微调平台成俯仰角的微量调整。
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