[发明专利]一种阵列基板及其制备方法、显示面板

说明书

本发明提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板，属于显示技术领域，其可解决现有的两条金属线之间的曝光量不足致使两线连到一起无法正常传递信号的问题。本发明的阵列基板的制备方法，在形成的绝缘层中设置了多个间隔设置的条状凸起，该凸起可以将后续形成的金属层的部分位置处垫高，相当于其可以使得金属层对应凸起的位置的距离曝光机更近，故曝光量较大，这样曝光后，形成的相邻的金属线间不会发生连线情况。

技术领域

本发明属于显示技术领域，具体涉及一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

背景技术

液晶显示面板包括显示(Active Area)区和显示区边缘的布线(Fan-out)区。随着显示技术的发展，显示产品需要以窄边框、全面屏设计来实现完美的视觉效果，这就需要减小布线区的线间距。当布线设计达到曝光机分辨率极限时，布线区容易发生缺陷，如相邻的两条金属线之间的曝光量不足或无法被曝光，会导致两线连到一起无法正常传递信号。

发明内容

本发明针对现有的两条金属线之间的曝光量不足致使两线连到一起无法正常传递信号的问题，提供一种阵列基板及其制备方法、显示面板。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是：

一种阵列基板的制备方法，包括以下制备步骤：

在衬底上形成绝缘层，所述衬底的至少部分边缘的位置处包括布线区；在布线区，所述绝缘层背离衬底的面具有多个间隔设置的条状凸起；

在完成上述步骤的绝缘层上方形成金属层；

将布线区的金属层图案化，以使所述金属层的对应两个凸起之间的位置处和对应凸起的位置处在图案化过程中接受的曝光量不同。

可选的是，在垂直于所述衬底所在面的方向上，所述凸起的尺寸范围为200-4000埃米。

可选的是，所述形成绝缘层包括以下制备步骤：

采用绝缘材料在衬底上形成绝缘涂层；

利用半色调曝光工艺将绝缘涂层图案化，得到在布线区的背离衬底的面具有多个条状凸起的所述绝缘层。

可选的是，在垂直于所述衬底所在面的方向上，所述绝缘涂层的尺寸范围为4200-8000埃米。

可选的是，所述金属层的对应两个凸起之间的位置处形成金属线，使所述金属层的对应凸起的位置处形成金属线的间隔；相邻的两个金属线的间距为1-10μm，所述金属线的线宽为1-10μm。

可选的是，所述将布线区的金属层图案化是采用掩膜版进行曝光以将布线区的金属层图案化，所述掩膜版包括多个拼接的掩膜条，相邻的两个掩膜条具有搭接边，所述绝缘层对应所述搭接边的位置设置所述条状凸起。

可选的是，所述金属层的对应凸起的位置处形成多条间隔设置的金属线，相邻的两个凸起的间距为70-120μm，所述凸起的宽度为5-40μm。

可选的是，所述绝缘层为栅极绝缘层，所述金属线为数据线，所述方法还包括：

在形成栅极绝缘层之前，在显示区形成栅极的步骤；

在形成栅极绝缘层与金属层之间形成有源层、像素电极的步骤。

本发明还提供一种阵列基板，采用上述的方法制备形成。

本发明还提供一种显示面板，包括上述的阵列基板。

附图说明

图1为本发明的实施例1的方法制备的阵列基板的俯视示意图；

图2为本发明的实施例1的方法制备的阵列基板的流程示意图；

图3为本发明的实施例2的方法制备的阵列基板的流程示意框图；