[发明专利]一种陶瓷基覆铜板的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810971092.6 申请日: 2018-08-24
公开(公告)号: CN108752032A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 陈长浩;陈晓鹏;朱义刚;秦伟峰;付军亮 申请(专利权)人: 山东金宝电子股份有限公司
主分类号: C04B37/02 分类号: C04B37/02;C09J7/10;C09J163/00;C09J129/04;C09J171/12;C09J11/04
代理公司: 烟台上禾知识产权代理事务所(普通合伙) 37234 代理人: 刘志毅
地址: 265400 山*** 国省代码: 山东;37
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 陶瓷基覆铜板 制备 覆铜板 覆胶 胶膜 耐热性 层间剥离强度 制备技术领域 层间结合力 起泡 喷头堵塞 喷涂设备 设备维护 生产效率 湿度问题 陶瓷基板 氧化亚铜 铜线 膜热压 喷涂法 耐热 喷涂 分层 粗糙 维修
【说明书】:

发明属于覆铜板制备技术领域,尤其涉及一种陶瓷基覆铜板的制备方法。本发明利用胶膜/覆胶膜热压法,解决了氧化亚铜喷涂法需要喷涂设备带来的设备维护和维修、喷涂不均、因温湿度问题造成喷头堵塞等技术问题。本发明通过粗糙、助剂的处理,解决了胶膜/覆胶膜与陶瓷基板的耐热低、起泡分层、铜线脱落等问题,制得的覆铜板耐热性高、层间结合力强、层间剥离强度高,提高产品的可靠性;陶瓷基覆铜板的制备方法,具有成本低、生产效率高、操作简单等特点,满足工业化大规模生产。

技术领域

本发明属于覆铜板制备技术领域,尤其涉及一种陶瓷基覆铜板的制备方法。

背景技术

随着科学技术的发展,对许多电气设备的承载载体覆铜板,提出了更高的导热、耐热、抗高压、高电流、高尺寸稳定性、低信号损耗等要求,尤其是综合需求以上其中部分性能。目前常规的覆铜板,例如:FR-4、金属基板、CEM-3、CEM-1等远远不能满足,从而开发了陶瓷基覆铜板。

陶瓷基覆铜板具有热导率高、高耐热、耐化学腐蚀、抗高电压电流、高尺寸稳定性、低信号损耗等性能,是理想的特殊电气电路用载体。

生产陶瓷基板的工艺大概可分为以下几种方法:

1、直接键合法(烧结法)

铜箔在高温和一定氧化气氛下,不添加任何粘结剂直接键合到陶瓷基板,牢固致密地结合在一起;Cu2O和Al2O3发生如下化学反应:

Cu2O+Al2O3→CuAlO2

待冷却后,Cu2O和Al2O3通过Cu-Al-O化学键致密地键合在一起;而氧化亚铜的添加,目前多采用氧化亚铜喷涂法,氧化亚铜喷涂法需要喷涂设备,并随之带来设备维护和维修、喷涂不均、因温湿度问题造成的喷头堵塞等技术问题。

2、粘结热压法

在陶瓷基片和铜箔之间加入粘结剂或胶膜,热压,将两者粘结在一起。但是,陶瓷基板与粘结剂或胶膜剂之间因粘结力弱小,经常出现耐热低、起泡分层、铜线脱落等问题,使产品不具备安全可靠性。

3、真空溅射法

真空溅射的方式对陶瓷基板进行镀铜。它的优点在于:精度高、平整度好、结合力好。而缺点在于:这种技术只能制作薄板(厚度<300μm),而且它的成本较高,产量受限,经常导致不能按时出货。

上述方法均有各种缺陷,例如:操作繁琐、条件苛刻、各层厚度不均匀、层间结合力不好、层间剥离强度低、成本高、生产效率低、难以工业化大规模生产等,导致生产应用性不强。这些问题都是本领域亟待解决的技术问题。

发明内容

本发明针对上述现有技术存在的不足,提供一种陶瓷基覆铜板的制备方法。

本发明解决上述技术问题的技术方案如下:一种陶瓷基覆铜板的制备方法,步骤如下:

(1)对陶瓷板进行粗化处理,粗化至Ra值为8-20μm;

(2)将步骤(1)粗化后的陶瓷板清洗后,涂覆助剂;

(3)再涂覆一层胶膜或覆胶膜;

(4)在经过步骤(3)处理后的陶瓷板含胶面一侧覆加一层铜箔,热固化成型。

进一步,步骤(1)所述的粗化处理为物理法或化学法的一种或两种结合。

进一步,所述的物理法为金刚砂削切打磨、激光斜切打磨或喷砂;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于山东金宝电子股份有限公司,未经山东金宝电子股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810971092.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top