[发明专利]陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备

说明书

本申请公开了一种陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备，陶瓷件的表面处理方法包括如下步骤：提供陶瓷基板；对陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；对陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。根据本申请的陶瓷件的表面处理方法，陶瓷件的表面光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现光哑同体的外观效果。

技术领域

本申请涉及表面处理技术领域，尤其是涉及一种陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备。

背景技术

近年来，陶瓷以其温润如玉的质感、尊贵典雅的寓意备受电子设备例如旗舰机的青睐，与玻璃相比，陶瓷具有优越的力学性能和电学性能。

然而，陶瓷在完成抛光加工后，其表面光泽趋于稳定值，例如，陶瓷件在抛光后表面粗糙度状态为Ra＝10nm～30nm，其光泽度为180Gu～260Gu(其中，光泽度测量角为60°)，且同一平面的光泽度的差值不超过30Gu，使得陶瓷呈现出的外观效果受到限制。

发明内容

本申请旨在至少解决现有技术中存在的技术问题之一。为此，本申请的一个目的在于提出一种陶瓷件的表面处理方法，所述表面处理方法使得陶瓷件的表面光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现光哑同体的外观效果。

本申请的另一个目的在于提出一种壳体组件。

本申请的又一个目的在于提出一种指纹模组。

本申请的再一个目的在于提出一种具有上述壳体组件和上述指纹模组中的至少一个的电子设备。

根据本申请第一方面实施例的陶瓷件的表面处理方法，包括如下步骤：提供陶瓷基板；对所述陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

根据本申请实施例的陶瓷件的表面处理方法，通过对陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变，使得陶瓷件的目标表面的光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现出光哑同体的效果，有效提升了陶瓷件的产品表现力。

根据本申请第二方面实施例的壳体组件，包括：陶瓷件，所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

根据本申请实施例的壳体组件，通过设置陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变，使得陶瓷件的表面的光泽度实现渐变，从而陶瓷件呈现出光哑同体的效果，有效提升了陶瓷件的产品表现力，进而有效提升了壳体组件的产品表现力，提升用户的体验效果。

根据本申请第三方面实施例的指纹模组，包括：指纹盖板，所述指纹盖板为陶瓷件，所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

根据本申请实施例的指纹模组，通过设置指纹盖板为陶瓷件、且陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变，使得指纹盖板的表面的光泽度实现渐变，从而指纹盖板呈现出光哑同体的效果，有效提升了指纹模组的产品表现力。

根据本申请第四方面实施例的电子设备，包括根据本申请上述第二方面实施例的壳体组件和根据本申请上述第三方面实施例的指纹模组中的至少一个。

根据本申请实施例的电子设备，通过采用上述的壳体组件和上述的指纹模组中的至少一个，可以有效提升电子设备的产品表现力，保证电子设备的外观效果，从而提升电子设备的市场竞争力。

本申请的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是根据本申请实施例一的陶瓷件的表面处理方法流程示意图；