[发明专利]陶瓷件的表面处理方法、壳体组件、指纹模组和电子设备

权利要求书

1.一种陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，包括如下步骤：

提供陶瓷基板；

对所述陶瓷基板进行成型处理，形成陶瓷件；

对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

2.根据权利要求1所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变，包括：

沿多个方向对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，以使所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿多个方向渐变；

其中，所述多个方向分别从所述目标表面上任意一点朝向所述目标表面边界延伸，或者，所述多个方向分别从所述目标表面上任意一条或多条分界线的两侧朝向所述目标表面边界延伸。

3.根据权利要求1或2所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述对所述陶瓷件的目标表面进行表面粗糙化处理，包括：

将所述目标表面分隔成多个区域面，对每个所述区域面进行表面粗糙化处理，以使所述区域面的表面粗糙度沿至少一个方向渐变。

4.根据权利要求3所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述表面处理方法还包括：

当对所述多个区域面中的其中一个区域面进行表面粗糙化处理时，对所述多个区域面中其余区域面进行覆膜处理。

5.根据权利要求1或2所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述表面粗糙化处理包括喷砂处理、印刷处理和浸蚀处理中的至少一种。

6.根据权利要求5所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，当所述表面粗糙化处理包括喷砂处理时，所述喷砂处理包括：

调整砂的种类、砂的粒径、砂的形状、喷砂时间和喷枪压力中的至少一个，以改变所述陶瓷件的表面粗糙度。

7.根据权利要求5所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，当所述表面粗糙化处理包括印刷处理时，所述印刷处理包括：

将混有腐蚀剂的油墨印刷在所述目标表面上，调整腐蚀剂的浓度和清洗时间中的至少一个，以改变所述陶瓷件的表面粗糙度。

8.根据权利要求7所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，所述腐蚀剂为氟化氢铵，所述油墨为水性油墨。

9.根据权利要求5所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，当所述表面粗糙化处理包括浸蚀处理时，所述浸蚀处理包括：

所述陶瓷件在腐蚀溶液中提拉，调整腐蚀溶液的浓度和提拉速度中的至少一个，以改变所述陶瓷件的表面粗糙度。

10.根据权利要求1所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，在对所述目标表面进行表面粗糙化处理之前，所述表面处理方法还包括：对所述陶瓷件进行超声清洗。

11.根据权利要求1所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，在对所述目标表面进行表面粗糙化处理之后，所述表面处理方法还包括：对所述陶瓷件进行抛光。

12.根据权利要求1所述的陶瓷件的表面处理方法，其特征在于，在对所述目标表面进行表面粗糙化处理之后，所述表面处理方法还包括：对所述陶瓷件进行上色处理。

13.一种壳体组件，其特征在于，包括：

陶瓷件，所述陶瓷件的目标表面的粗糙度沿至少一个方向渐变。

14.根据权利要求13所述的壳体组件，其特征在于，所述目标表面包括多个渐变区域，多个所述渐变区域的粗糙度的渐变方向不同。

15.根据权利要求14所述的壳体组件，其特征在于，所述壳体组件还包括镀膜层，所述镀膜层覆盖所述目标表面的至少一个所述渐变区域。