[发明专利]一种镀膜设备及镀膜方法

说明书

本发明涉及一种镀膜设备及镀膜方法，其中镀膜设备包括真空室(1)，设置在所述真空室(1)中的靶材基座(11)和基底夹具(12)，所述靶材基座(11)设置于所述基底夹具(12)的上方；还包括电极切换装置(13)；所述电极切换装置(13)与所述靶材基座(11)相互连接，且所述靶材基座(11)为偶数个。通过交替变换溅射靶材的电极性，从而实现本发明在镀膜过程中，使带正电荷的等离子体轮流轰击电极性为阴极的溅射靶材，从而避免的长时间轰击同一个溅射靶材而导致溅射靶材“中毒”，进而避免了在镀膜过程中，溅射靶材的失效，有效提高了溅射靶材的使用寿命，并且进一步提高了镀膜设备的镀膜效率。

技术领域

本发明涉及一种镀膜设备及镀膜方法，尤其涉及一种用于滤光片的镀膜设备及镀膜方法。

背景技术

随着科技的发展，在智能手机、车载激光雷达、安防门禁、智能家居、虚拟现实/增强现实/混合现实、3D体感游戏、3D摄像与显示等终端运用中逐步嵌入了人脸识别、手势识别等功能。相应的，为实现上述功能则需要用到近红外窄带滤光片，其能起到增透铜带中近红外光线，截止环境中可见光的作用。通常近红外窄带滤光片包括两个膜系，分别为IR带通膜系和长波通AR膜系。传统膜料和真空蒸发镀膜方式难以满足新兴市场需求，因此导致现有技术中的滤光片对近红外光线的增透效果以及截止可见光的效果较差，在一个较大角度范围内被摄物反射或发射光被红外传感器敏感捕获的光信号通带出现偏移，导致信号噪声增大，进而引起识别异常，从而导致将滤光片组装到人脸识别、手势识别等装置后，成像效果较差、识别精度不高，而且，传统技术中近红外窄带滤光片的生产效率低，难以满足日益增长的市场需要。

发明内容

本发明的目的在于提供一种镀膜设备及镀膜方法，解决滤光片生产效率低的问题。

为实现上述发明目的，本发明提供一种镀膜设备，包括真空室，设置在所述真空室中的靶材基座和基底夹具，所述靶材基座设置于所述基底夹具的上方；还包括电极切换装置；

所述电极切换装置与所述靶材基座相互连接，且所述靶材基座为偶数个。

根据本发明的一个方面，所述靶材基座上设置有线性位移装置；

沿竖直方向，所述线性位移装置驱动所述靶材基座往复移动。

根据本发明的一个方面，还包括：设置于所述真空室中与所述靶材基座相邻且用于提供并增强所述靶材基座位置等离子体运动速度的射频发生器,以及设置与所述真空室外部且与所述靶材基座相对的交变磁场装置。

根据本发明的一个方面，还包括：设置在所述真空室上的离子源和抽气装置，用于向所述真空室中通入气体的进气管，用于抽取所述真空室中气体的出气管；

所述进气管包括用于输送惰性气体的第一进气管和用于通入反应气体的第二进气管。

根据本发明的一个方面，所述进气管与所述出气管相对设置。

根据本发明的一个方面，所述电极切换装置为交流电极切换装置。

为实现上述发明目的，本发明提供一种镀膜方法，包括：

S1.在真空室中分别安装溅射靶材和基底，并将真空室中的压力控制在预设压力值；

S2.向所述真空室通入惰性气体，并将所述惰性气体电离后轰击所述溅射靶材和所述基底的表面进行预处理；

S3.向所述真空室中通入反应气体，在所述基底上镀制膜层，其中，以预设周期交替变换所述溅射靶材的电极性。

根据本发明的一个方面，所述惰性气体和所述反应气体通入的体积流量小于120sccm。

根据本发明的一个方面，所述惰性气体为氩气，所述反应气体为氢气或氧气；