[发明专利]解决版图图形偏离栅格线的修正方法有效

专利信息
申请号: 201810878190.5 申请日: 2018-08-03
公开(公告)号: CN109001958B 公开(公告)日: 2021-08-20
发明(设计)人: 徐一建;李天慧;龙海凤 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: G03F1/72 分类号: G03F1/72
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 江西省上饶市淮*** 国省代码: 江西;36
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摘要:
搜索关键词: 解决 版图 图形 偏离 栅格 修正 方法
【说明书】:

发明提供了一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法,对于偏离栅格线的目标图形,通过在栅格阵列中定义并连接各个栅格偏离点所对应的栅格修正点获得修正后的图形。本发明可有效解决人工逐条审查修改效率低下的问题。通过使用本发明的修正方法,不但可以修正偏离栅格线的图形,也可以修正版图中的畸形点,使版图可以在光罩上准确刻写。

技术领域

本发明涉及集成电路设计领域,特别是涉及一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法。

背景技术

在进行集成电路版图设计时,由于光罩版图设计以及制造方法的限制,版图上对的每个图案都必须符合on-grid规则,即每个图案的边缘必须位于指定的栅格线上。当出现off-grid的情况,即图案的边缘不在栅格线上时,该版图就无法正常交付光罩加工。目前,主要依靠技术人员对初步设计后的版图中的off-grid图案进行人工逐条审查修改,这不但费时费力,也无法保证修改的正确率。

因此,针对改进偏离栅格线图案修正方法的应用需求,有必要提出一种新的解决版图图形偏离栅格线的修正方法,以解决上述问题。

发明内容

鉴于以上所述现有技术的缺点,本发明的目的在于提供一种修正版图图形偏离栅格线的方法,用于解决现有的人工逐条审查修改效率低下的问题。

为实现上述目的及其它相关目的,本发明提供一种解决版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,包括如下步骤:

1)提供一目标图形,所述目标图形形成于一栅格阵列中,所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵;

2)定义一包含所述目标图形的最小矩形,所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴;

3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点,分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线,将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点;

4)将距离所述栅格偏离点最近的栅格点定义为栅格修正点,得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点;

5)将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接,以得到修正后图形。

作为本发明的一种优选方案,在步骤5)中,将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接之前,还包括对所述栅格修正点进行线性度评估和曲率半径评估,并剔除线性度或曲率半径异常的栅格修正点的步骤。

作为本发明的一种优选方案,在步骤5)中,将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接时,当相邻的两个所述栅格修正点不在一条所述连接线上时,将通过相邻的两个所述栅格修正点的两条所述连接线的交点定义为辅助栅格修正点,相邻两所述栅格修正点分别沿X轴方向或Y轴方向与所述辅助栅格修正点相连接。

作为本发明的一种优选方案,在步骤5)中,采用外接方式或内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形;其中,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。

作为本发明的一种优选方案,在步骤5)中,采用外接方式和内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形;其中,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。

作为本发明的一种优选方案,在步骤5)后,还包括以下步骤:

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