[发明专利]解决版图图形偏离栅格线的修正方法有效
| 申请号: | 201810878190.5 | 申请日: | 2018-08-03 |
| 公开(公告)号: | CN109001958B | 公开(公告)日: | 2021-08-20 |
| 发明(设计)人: | 徐一建;李天慧;龙海凤 | 申请(专利权)人: | 德淮半导体有限公司 |
| 主分类号: | G03F1/72 | 分类号: | G03F1/72 |
| 代理公司: | 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 | 代理人: | 余明伟 |
| 地址: | 江西省上饶市淮*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 解决 版图 图形 偏离 栅格 修正 方法 | ||
1.一种解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,包括如下步骤:
1)提供一目标图形,所述目标图形形成于一栅格阵列中,所述栅格阵列包括由在直角坐标系中沿X轴方向和Y轴方向等间距排列的若干栅格点所构成的矩阵;
2)定义一包含所述目标图形的最小矩形,所述最小矩形的边线平行于所述X轴或所述Y轴;
3)通过所述最小矩形的边线两侧的栅格点,分别沿平行于所述X轴方向和所述Y轴方向作垂直于所述最小矩形的边线的垂线,将所述垂线与所述目标图形的交点定义为栅格偏离点;
4)将距离所述栅格偏离点最近的栅格点定义为栅格修正点,得到所述目标图形上的所有所述栅格偏离点所对应的所述栅格修正点;
5)将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接,以得到修正后图形。
2.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤5)中,将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接之前,还包括对所述栅格修正点进行线性度评估和曲率半径评估,并剔除线性度或曲率半径异常的栅格修正点的步骤。
3.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤5)中,将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接时,当相邻的两个所述栅格修正点不在一条所述连接线上时,将通过相邻的两个所述栅格修正点的两条所述连接线的交点定义为辅助栅格修正点,相邻两所述栅格修正点分别沿X轴方向或Y轴方向与所述辅助栅格修正点相连接。
4.根据权利要求3所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤5)中,采用外接方式或内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形;其中,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
5.根据权利要求3所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤5)中,采用外接方式和内接方式将相邻所述栅格修正点沿所述X轴方向和/或所述Y轴方向作连接线相连接以得到所述修正后图形;其中,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形外侧时得到所述修正后图形的连接方式为外接方式,与所述栅格修正点相连接的所述辅助栅格修正点位于所述目标图形内侧时得到所述修正后图形的连接方式为内接方式。
6.根据权利要求4或5所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤5)后,还包括以下步骤:
6)对所述修正后图形进行设计规则检查验证,对所述修正后图形中违反设计规则的图形部分进行再修正。
7.根据权利要求6所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,在步骤6)中,当所述设计规则检查验证发现所述修正后图形中有违反设计规则的图形部分时,更改所述修正后图形中所述栅格修正点与所述辅助栅格修正点的连接方式,以使得再修正后的所述修正后图形符合所述设计规则。
8.根据权利要求1所述的解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法,其特征在于,所述解决光刻版图图形偏离栅格线的修正方法用于对光刻版图中偏离栅格点的图形进行修正。
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