[发明专利]一种高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法有效
| 申请号： | 201810877306.3 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN109112483B | 公开（公告）日： | 2019-10-08 |
| 发明（设计）人： | 赵跃;吴蔚;储静远;张智巍;金之俭;洪智勇 | 申请（专利权）人： | 上海交通大学 |
| 主分类号： | C23C14/08 | 分类号： | C23C14/08;C23C16/40;C23C18/12;H01B13/00;C23C14/58;C23C16/56 |
| 代理公司： | 上海汉声知识产权代理有限公司 31236 | 代理人： | 庄文莉 |
| 地址： | 200240 *** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 热处理 前驱膜 生长 高温超导膜 高性能稀土 稀土钡铜氧 钡铜氧 熔融 沉积 保温 凝固 热处理工艺 超导性能 衬底材料 高温超导 铜氧化物 超导膜 稀土钡 制备 | ||
1.一种高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法，其特征在于，包括以下步骤：
A、在衬底材料上沉积稀土钡铜氧前驱膜；
B、将步骤A制备的前驱膜进行熔融然后再凝固的热处理，即可；
步骤B中，所述熔融然后再凝固的热处理采用先在760-850℃下第一次保温1秒-30分钟，然后在760-850℃下第二次保温1秒-30分钟；所述熔融然后再凝固的热处理在含氧气氛下进行；第一次保温采用的含氧量为1ppm-0.1%，第二次保温采用的含氧量为20ppm-100%。
2.根据权利要求1所述的高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法，其特征在于，步骤A中，所述沉积方法包括物理气相沉积、化学气相沉积和化学溶液沉积中的至少一种。
3.根据权利要求1所述的高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法，其特征在于，步骤A中，所述衬底材料选择单晶衬底材料或织构金属基带衬底材料中的至少一种。
4.根据权利要求1所述的高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法，其特征在于，步骤A中，所述稀土钡铜氧中的稀土、钡、铜的原子比为0.5-2.5: 1.5-2.5: 2.5-3.5；所述稀土选自钆、钐、钕中的一种或几种。
5.据权利要求1所述的高速率生长高性能稀土钡铜氧高温超导膜的热处理方法，其特征在于，所述方法还包括在热处理后进行吸氧处理，所述吸氧处理采用在300-600℃下保温3小时；所述吸氧处理采用100%氧气气氛。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海交通大学，未经上海交通大学许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810877306.3/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
