[发明专利]一种干涉曝光简易立式基片台

说明书

本发明属于多光束干涉光刻曝光技术领域，具体涉及一种干涉曝光简易立式基片台。其价格低、体积小、重量轻、组合自由，能良好的固定和调整控制基片在多光束干涉光刻系统中完成曝光。本发明的技术方案包括底座，所述的底座上设置有六自由度组合移动台，六自由度组合移动台上设置有真空吸盘组件。

技术领域

本发明属于多光束干涉光刻曝光技术领域，具体涉及一种干涉曝光简易立式基片台。

背景技术

在多光束干涉光刻曝光实验研究过程中，需要频繁地调整待曝光基片相对于多个入射光束的倾角和位置。目前市场上的光刻设备中，已有多种专用精密工件台，满足光刻基片的精密移动和定位，功能齐全，但其系统构造复杂、价格昂贵、体积庞大。针对多光束干涉光刻的技术特点，即不需掩模成像，仅需将多个相干光束以一定的入射方位角同时照射到待曝光基片表面上，利用干涉图案所对应的能量分布，将基片表面的光致抗蚀剂曝光。与传统的光刻技术相比，干涉光刻系统具有曝光场范围大、基片在干涉场内的纵向摆放位置灵活的优点。因此，与传统光刻系统不同的是，在多光束干涉曝光系统中，基片表面与多个入射光束之间的夹角可调，并且基片表面可绕自身法线大角度旋转，以满足多光束多次组合曝光的需要。另外，与传统光刻设备中待曝光基片多为水平摆放的方式不同，干涉光刻系统中，为方便光路在平台上沿水平方向布局，待曝光基片往往需要竖立安置，以使基片表面的法线与沿水平方向的光轴重合，方便光束沿水平方向投射到基片表面。

发明内容

有鉴于此，本发明提供一种干涉曝光简易立式基片台，其价格低、体积小、重量轻、组合自由，能良好的固定和调整控制基片在多光束干涉光刻系统中完成曝光。

为解决现有技术存在的问题，本发明的技术方案是：一种干涉曝光简易立式基片台，其特征在于：包括底座，所述的底座上设置有六自由度组合移动台，六自由度组合移动台上设置有真空吸盘组件。

所述的真空吸盘组件包括真空吸盘和真空吸盘连接件；所述的真空吸盘的表面开有沟槽，沟槽与位于吸盘中心的通气孔贯通；真空吸盘连接件上设置有通气孔，并与真空吸盘上的通气孔相通，吸盘连接件上的通气孔与真空泵相连；

所述的六自由度组合移动台由升降台、二维平移台、摆角器一、摆角器二和旋转台组成，所述的升降台、二维平移台、摆角器一、摆角器二和旋转台从上到下依次连接；所述的吸盘连接件设置于升降台上。

与现有技术相比，本发明的优点如下：

本发明结构简单、可代替以往复杂且昂贵的高精度光刻机工件台，具备工件台的基本功能，满足干涉光刻实验需要，大幅度节约了研究成本和空间；

本发明中的六自由度组合移动台采用现有市场化、标准化的元器件搭建，具有良好的互换性，搭建过程简单快捷，省时省力。

附图说明

图1为本发明结构示意图。

图中：1—真空吸盘组件，2—六自由度组合移动台，3—真空吸盘，4—吸盘连接件，5—升降台，6—二维平移台，7—摆角器一，8—摆角器二，9—旋转台，10—底座。

具体实施方式

为了使本发明的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本发明进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本发明，并不用于限定本发明。

本发明的原理是：通过二维平移台，旋转台，摆角器之间的组合，形成空间上的六自由度控制组件，利用真空吸附的方式固定待曝光基片，再由六自由度控制组件带动真空吸盘组件，控制待曝光基片在曝光场中的位置和角度的调整，使基片能够准确调整表面法线方向对准光轴接收多光束的照射，从而对基片表面形成干涉图像的曝光。

本实施例提供一种干涉曝光简易立式基片台（参见图1），包括底座10，所述的底座10上设置有六自由度组合移动台2，六自由度组合移动台2上设置有真空吸盘组件1；