[发明专利]一种干涉曝光简易立式基片台在审
| 申请号： | 201810876389.4 | 申请日： | 2018-08-03 |
| 公开（公告）号： | CN108983558A | 公开（公告）日： | 2018-12-11 |
| 发明（设计）人： | 孙国斌;王玉瑾;张锦;弥谦;蒋世磊;马丽娜;党小刚 | 申请（专利权）人： | 西安工业大学 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 西安新思维专利商标事务所有限公司 61114 | 代理人： | 黄秦芳 |
| 地址： | 710032 陕*** | 国省代码： | 陕西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 多光束干涉 六自由度 组合移动 曝光 底座 简易 真空吸盘组件 调整控制 光刻曝光 光刻系统 台本发明 基片台 体积小 重量轻 干涉 自由 | ||
【权利要求书】：
1.一种干涉曝光简易立式基片台，其特征在于：包括底座（10），所述的底座（10）上设置有六自由度组合移动台（2），六自由度组合移动台（2）上设置有真空吸盘组件（1）。
2.根据权利要求1所述的干涉曝光简易立式基片台，其特征在于：
所述的真空吸盘组件（1）包括真空吸盘（3）和真空吸盘连接件（4）；所述的真空吸盘（3）的表面开有沟槽，沟槽与位于吸盘中心的通气孔贯通；真空吸盘连接件（4）上设置有通气孔，并与真空吸盘上的通气孔相通，吸盘连接件（4）上的通气孔与真空泵相连；
所述的六自由度组合移动台（2）由升降台（5）、二维平移台（6）、摆角器一（7）、摆角器二（8）和旋转台（9）组成，所述的升降台（5）、二维平移台（6）、摆角器一（7）、摆角器二（8）和旋转台（9）从上到下依次连接；所述的吸盘连接件（4）设置于升降台（5）上。
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