[发明专利]清洗掩膜版的方法以及装置

说明书

本发明提供了清洗掩膜版的方法以及装置。其中，清洗掩膜版的方法包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。发明人发现，该方法操作简单、方便，易于实现，清洗液的选择范围较广，清洗成本较低、效率较高，至少部分待清洗金属可以回收利用，节约了经济和时间成本。

技术领域

本发明涉及电化学技术领域，具体的，涉及清洗掩膜版的方法以及装置。

背景技术

OLED显示装置由于具有自主发光、色彩鲜艳、低功耗、广视角等优点被应用的越来越广泛。目前，制作OLED显示装置时普遍采用蒸镀技术，其中金属掩膜版(Metal Mask，简称Mask)在整个OLED显示装置生产工艺中扮演着极其重要的角色。在蒸镀过程中，蒸镀材料会沉积到Mask上，且随着蒸镀次数和时间的增加，Mask上沉积的蒸镀材料会越来越厚，进而影响金属掩膜版的尺寸精度，导致各种蒸镀不良。因此，当Mask使用一段时间后需要对其进行清洗，从而保证蒸镀效果。

目前关于清洗掩膜版的方法的研究有待深入。

发明内容

本发明旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本发明的一个目的在于提出一种操作简单、清洗效果较佳、几乎不会损坏掩膜版本体或者清洗成本低的清洗掩膜版的方法。

在本发明的一个方面，本发明提供了一种清洗掩膜版的方法。根据本发明的实施例，该方法包括：提供待清洗的掩膜版，所述待清洗的掩膜版包括掩膜版本体以及待清洗金属，所述待清洗金属形成在所述掩膜版本体的至少一部分表面上；在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗。发明人发现，该方法操作简单、方便，易于实现，清洗液的选择范围较广，清洗成本较低、效率较高，至少部分待清洗金属可以回收利用，节约了经济和时间成本，几乎可以将掩膜版本体表面的待清洗金属全部腐蚀掉，而不会腐蚀掩膜版本体，不存在过清洗的问题，且在阴极保护的作用下，掩膜版本体不会发生电偶腐蚀问题，使得掩膜版本体使用寿命较长，可靠性较高。

根据本发明的实施例，形成所述掩膜版本体的材料包括铁、铁镍合金或者不锈钢中的至少之一，形成所述待清洗金属的材料包括镁、镁和银的混合物或者含锂化合物。

根据本发明的实施例，在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗包括：将所述待清洗的掩膜版和保护金属同时浸没在清洗液中，并将所述保护金属与所述待清洗的掩膜版电连接，所述保护金属的腐蚀电位低于所述掩膜版本体的腐蚀电位且高于所述待清洗金属的腐蚀电位。

根据本发明的实施例，所述保护金属包括铝合金、钛合金中的至少之一。

根据本发明的实施例，在对所述掩膜版本体进行阴极保护的条件下，对所述待清洗的掩膜版进行清洗包括：将惰性电极的至少一部分和所述待清洗的掩膜版浸没在清洗液中，并将所述惰性电极和所述待清洗的掩膜版分别与直流电源的正极和负极电连接，其中，所述直流电源的负极的电位低于所述掩膜版本体的腐蚀电位且高于所述待清洗金属的腐蚀电位。

根据本发明的实施例，形成所述惰性电极的材料选自铂、金和石墨中的至少之一。

根据本发明的实施例，所述直流电源的负极电位为-1.6V～-0.5V。

根据本发明的实施例，所述清洗液包括酸溶液和金属盐溶液中的至少之一。

根据本发明的实施例，所述清洗液的温度恒定。