[发明专利]一种1Cr18Ni9Ti、TA2航天通类组件的电子束单面焊双面成型工艺方法在审

专利信息
申请号: 201810858655.0 申请日: 2018-07-31
公开(公告)号: CN108857033A 公开(公告)日: 2018-11-23
发明(设计)人: 马纪龙;宋凡;张祎玲;刘泽敏;于康;潘攀;陈晓江;姜叶斌;曹丹 申请(专利权)人: 上海空间推进研究所
主分类号: B23K15/00 分类号: B23K15/00;B23K15/06
代理公司: 上海段和段律师事务所 31334 代理人: 李佳俊;郭国中
地址: 200233 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 电子束 类组件 单面焊双面成型 点焊定位 束流 聚焦 焊缝质量检查 焊接工艺参数 毛刺 机加工成型 单面焊接 加速电压 三爪卡盘 扫描幅度 扫描函数 扫描频率 完成零件 航天 焊缝 焊机 工艺流程 错边量 飞溅 余弦 轴向 装夹 焊接 装配
【权利要求书】:

1.一种1Cr18Ni9Ti、TA2航天通类组件的电子束单面焊双面成型工艺方法,其特征在于,包括如下步骤:

S1、完成零件装配,焊缝端面或轴向错边量≤0.05mm,间隙≤0.05mm;

S2、通类组件的点焊定位;

对称定位2~4点,定位方式采用手工氩弧焊或激光焊方式,焊点不允许氧化,焊点有核心;

S3、将完成点焊定位的通类组件装夹到焊机三爪卡盘上,焊接处圆跳动≤0.05mm,端面跳动≤0.05mm;

S4、焊缝质量检查;

焊缝需要满足QJ972-86I级焊缝要求,且内窥镜检测焊缝反面无焊接飞溅。

2.如权利要求1所述的一种1Cr18Ni9Ti、TA2航天通类组件的电子束单面焊双面成型工艺方法,其特征在于,所述步骤S2中焊接过程工艺参数如下:

加速电压:35~45kV;

真空度:≤7×10-4mbar;

聚焦束流:If-25mA,其中If为表面聚焦束流;

余弦扫描函数;

扫描频率:150Hz;

扫描幅度:2.5~3.5;

焊接速度:15~20mm/s;

电子束流:壁厚1.0mm:8~16mA,壁厚1.0~2.0mm:16~32mA。

3.如权利要求1所述的一种1Cr18Ni9Ti、TA2航天通类组件的电子束单面焊双面成型工艺方法,其特征在于,所述的焊缝结构为无锁底对接环焊缝结构,焊缝两侧焊接材料为TA2+TA2或1Cr18Ni9Ti+1Cr18Ni9Ti。

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