[发明专利]一种调节电子显微镜成像参数的方法及装置

说明书

本公开提供了一种调节电子显微镜成像参数的方法和装置，应用于电子显微镜EM，该方法包括：EM获取执行成像前的准备阶段的第一参数，将所述第一参数输入预先训练得到的所述EM对应的第一成像模型，得到第二参数；按照所述准备阶段的第一参数和得到的第二参数进行成像，得到第一图像；提取所述得到的第二参数中的第三参数，将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型，得到第四参数；按照所述准备阶段的第一参数和第三参数以及得到的第四参数进行成像，得到第二图像；基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述EM的成像参数，按照确定的所述成像参数成像。可以有效提升成像参数调节效率。

技术领域

本公开涉及大数据应用技术领域，具体而言，涉及一种调节电子显微镜(EM，Electron Microscope)成像参数的方法及装置。

背景技术

EM是由一个透镜或几个透镜的组合构成的一种光学仪器，用于放大微小物体以便获取该微小物体的微观结构信息。其中，扫描电子显微镜(SEM，Scanning ElectronMicroscope)以其最大分辨率可达1纳米(nm)，放大倍数在20-200000倍之间连续可调，能够对光学显微镜极限范围外的微小物体进行成像，并基于成像的图像进行分析，广泛应用在生物、医学、材料学、电子、半导体工业等领域中。

在对SEM成像的图像进行分析时，图像质量，例如，图像清晰度直接影响后续图像分析结果。而图像质量与成像质量直接相关，因而，提升成像质量，可以有效提升图像分析结果精度。SEM或EM成像的原理是通过电子束照射样品，通过信号收集器收集样品表面反射出来的二次电子(Secondary Electrons)，再经过图像技术处理后在显示屏上成像。其中，电压、电流、电子束光斑尺寸(Spotsize)、工作距离、像散矫正参数以及放大倍数等成像参数综合影响SEM成像质量。

发明内容

有鉴于此，本公开的目的在于提供一种调节电子显微镜成像参数的方法和装置，用于解决现有技术中调节清晰图像所需时间较长，导致成像参数调节效率较低的问题。

第一方面，本公开实施例提供了一种调节电子显微镜成像参数的方法，该方法包括：

所述EM获取执行成像前的准备阶段的第一参数，将所述第一参数输入预先训练得到的所述EM对应的第一成像模型，得到第二参数，所述电子显微镜成像参数包括所述第一参数和第二参数；

控制按照所述准备阶段的第一参数和得到的第二参数进行成像，得到第一图像；

提取所述得到的第二参数中的第三参数，将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型，得到第四参数；

按照所述准备阶段的第一参数、提取的第三参数以及得到的第四参数进行成像，得到第二图像；

基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述电子显微镜成像参数，按照确定的所述电子显微镜成像。

可选地，所述基于所述第一图像以及所述第二图像，确定所述电子显微镜成像参数，包括：

获取所述第一图像的清晰度和所述第二成像图片的清晰度；

计算所述第一图像的清晰度与所述第二图像的清晰度的差值；

若所述差值小于或等于预设清晰度差阈值，获取所述清晰度最高的图像的成像参数，作为所述EM的成像参数；

若所述差值大于预设清晰度差阈值，提取清晰度最高的图像，替换所述第一图像；修改所述第三参数以调节再次成像的成像参数，执行所述将所述第三参数输入预先训练得到的所述EM对应的第二成像模型的步骤，直至所述差值小于或等于预设清晰度差阈值。

可选地，所述方法还包括：

显示所述清晰度最高的图像和所述清晰度最高的图像的成像参数。