[发明专利]四氢异喹啉类衍生物及其制备方法和用途

权利要求书

1.一种化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物具有式(I)的结构，

其中：

表示单键或双键；

R₁在每次出现时各自独立地选自H、氰基、卤素和5-6元杂芳基，且多个R₁彼此之间可以相同或不同；

X为CH₂或C＝O；

R₃在每次出现时各自独立地选自H和羟基，多个R₃彼此之间可以相同或不同，且至少有一个R₃不为H；

Y选自

W选自CR₄、CR_4aR_4b和C(＝O)；

Q选自N、C和CR₂；

R₂、R₄、R_4a和R_4b各自独立地选自H和C_1-6烷基；

n选自3-12之间的任意整数，包括端值，优选为3、4、5、6、7和8；

m为1、2、3、4或5的整数，r为0、1或2。

2.根据权利要求1所述的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中：

R₁在每次出现时各自独立地选自H、氟、氯、溴、氰基和5元杂芳基(例如5元含氮杂芳基)，且多个R₁彼此之间可以相同或不同。

3.权利要求1或2的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物具有式(II)的结构：

其中：

n选自3、4、5或6；

R₃在每次出现时各自独立地选自H和羟基，多个R₃彼此之间可以相同或不同，且至少有1个R₃不为H，优选至少2个R₃不为H，更优选至少3个R₃不为H；

R₁、Y、W、Q、m和r如权利要求1-2任一项所定义。

4.权利要求1-3任一项的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物具有式(II-1)的结构：

其中，m选自2和3，R₁、R₃、Y、W、Q、n和r如权利要求1-3任一项所定义。

5.权利要求1-4任一项的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物具有式(II-2)的结构：

其中，R₁选自H和R₃、Y和n如权利要求1-4任一项所定义。

6.权利要求1-4任一项的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物具有式(II-3)的结构：

其中，R₁选自H和R₃、Y和n如权利要求1-4任一项所定义。

7.权利要求1-6任一项所述的化合物或其药学上可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，其中所述化合物选自：

8.药物组合物，其包含预防或治疗有效量的权利要求1-7任一项所述的化合物或其药学可接受的盐、酯、立体异构体、互变异构体、多晶型物、溶剂合物、同位素标记的化合物、代谢物或前药，优选进一步含有药学上可以接受的辅料。