[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置在审

专利信息
申请号: 201810836262.X 申请日: 2018-07-26
公开(公告)号: CN109037476A 公开(公告)日: 2018-12-18
发明(设计)人: 姜博 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/52 分类号: H01L51/52;H01L51/50;H01L27/32
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静;刘伟
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 显示基板 挡墙 像素界定层 开口区域 显示装置 反射层 基底 发光效率 显示器件 制作 覆盖
【说明书】:

发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决现有的显示器件发光效率较低的问题。所述显示基板,包括基底和设置在所述基底上的像素界定层,所述像素界定层包括:多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;设置在所述挡墙上的反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。本发明提供的显示基板用于显示。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。

背景技术

随着显示技术的不断发展,显示器件的种类越来越多,目前常用的自发光显示器件主要包括:有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示器件,以及量子点发光二极管(英文:Quantum Dot Light-Emitting Diodes,简称QLED)显示器件,这类显示器件在实际应用时,具有广视角、高对比度和低能耗等优点,但是由于受到等离子体激元损耗、基板吸收以及光波导损失等因素的影响,这类显示器件还存在出光效率较低的问题。

发明内容

本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,用于解决现有的显示器件发光效率较低的问题。

为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:

本发明的第一方面提供一种显示基板,包括基底和设置在所述基底上的像素界定层,所述像素界定层包括:

多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;

设置在所述挡墙上的反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。

进一步地,所述像素界定层还包括:设置在所述反射层上的透明绝缘层,所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。

进一步地,所述透明绝缘层的材料与所述挡墙的材料相同。

进一步地,所述反射层采用金属材料。

进一步地,所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面为梯形或者三角形时,所述反射层至少覆盖所述挡墙的侧表面。

进一步地,所述反射层完全覆盖所述挡墙。

基于上述显示基板的技术方案,本发明的第二方面提供一种显示装置,包括上述显示基板。

基于上述显示基板的技术方案,本发明的第三方面提供一种显示基板的制作方法,包括:

在基底上制作多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;

在所述挡墙上制作反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。

进一步地,所述制作方法还包括:

在所述反射层上制作透明绝缘层,所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。

进一步地,所述在基底上制作多个挡墙的步骤具体包括:

在所述基底上制作挡墙薄膜;

利用构图工艺对所述挡墙薄膜进行构图,形成多个挡墙;

所述在所述挡墙上制作反射层的步骤具体包括:

在所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域沉积反射层;

所述在所述反射层上制作透明绝缘层的步骤具体包括:

在所述反射层上制作透明绝缘薄膜;

利用构图工艺对所述透明绝缘薄膜进行构图,形成透明绝缘层。

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