[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置在审
| 申请号: | 201810836262.X | 申请日: | 2018-07-26 |
| 公开(公告)号: | CN109037476A | 公开(公告)日: | 2018-12-18 |
| 发明(设计)人: | 姜博 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L51/50;H01L27/32 |
| 代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 | 代理人: | 许静;刘伟 |
| 地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 显示基板 挡墙 像素界定层 开口区域 显示装置 反射层 基底 发光效率 显示器件 制作 覆盖 | ||
本发明公开一种显示基板及其制作方法、显示装置,涉及显示技术领域,为解决现有的显示器件发光效率较低的问题。所述显示基板,包括基底和设置在所述基底上的像素界定层,所述像素界定层包括:多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;设置在所述挡墙上的反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。本发明提供的显示基板用于显示。
技术领域
本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种显示基板及其制作方法、显示装置。
背景技术
随着显示技术的不断发展,显示器件的种类越来越多,目前常用的自发光显示器件主要包括:有机发光二极管(英文:Organic Light-Emitting Diode,简称OLED)显示器件,以及量子点发光二极管(英文:Quantum Dot Light-Emitting Diodes,简称QLED)显示器件,这类显示器件在实际应用时,具有广视角、高对比度和低能耗等优点,但是由于受到等离子体激元损耗、基板吸收以及光波导损失等因素的影响,这类显示器件还存在出光效率较低的问题。
发明内容
本发明的目的在于提供一种显示基板及其制作方法、显示装置,用于解决现有的显示器件发光效率较低的问题。
为了实现上述目的,本发明提供如下技术方案:
本发明的第一方面提供一种显示基板,包括基底和设置在所述基底上的像素界定层,所述像素界定层包括:
多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;
设置在所述挡墙上的反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。
进一步地,所述像素界定层还包括:设置在所述反射层上的透明绝缘层,所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。
进一步地,所述透明绝缘层的材料与所述挡墙的材料相同。
进一步地,所述反射层采用金属材料。
进一步地,所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面为梯形或者三角形时,所述反射层至少覆盖所述挡墙的侧表面。
进一步地,所述反射层完全覆盖所述挡墙。
基于上述显示基板的技术方案,本发明的第二方面提供一种显示装置,包括上述显示基板。
基于上述显示基板的技术方案,本发明的第三方面提供一种显示基板的制作方法,包括:
在基底上制作多个挡墙,所述挡墙限定出开口区域;
在所述挡墙上制作反射层,所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。
进一步地,所述制作方法还包括:
在所述反射层上制作透明绝缘层,所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。
进一步地,所述在基底上制作多个挡墙的步骤具体包括:
在所述基底上制作挡墙薄膜;
利用构图工艺对所述挡墙薄膜进行构图,形成多个挡墙;
所述在所述挡墙上制作反射层的步骤具体包括:
在所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域沉积反射层;
所述在所述反射层上制作透明绝缘层的步骤具体包括:
在所述反射层上制作透明绝缘薄膜;
利用构图工艺对所述透明绝缘薄膜进行构图,形成透明绝缘层。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择





