[发明专利]一种显示基板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示基板，包括基底和设置在所述基底上的像素界定层，其特征在于，所述像素界定层包括：

多个挡墙，所述挡墙限定出开口区域；

设置在所述挡墙上的反射层，所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。

2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述像素界定层还包括：设置在所述反射层上的透明绝缘层，所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。

3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述透明绝缘层的材料与所述挡墙的材料相同。

4.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述反射层采用金属材料。

5.根据权利要求1～4中任一项所述的显示基板，其特征在于，所述挡墙在垂直于其自身延伸方向上的截面为梯形或者三角形时，所述反射层至少覆盖所述挡墙的侧表面。

6.根据权利要求5所述的显示基板，其特征在于，所述反射层完全覆盖所述挡墙。

7.一种显示装置，其特征在于，包括如权利要求1～6任一项所述的显示基板。

8.一种显示基板的制作方法，其特征在于，包括：

在基底上制作多个挡墙，所述挡墙限定出开口区域；

在所述挡墙上制作反射层，所述反射层覆盖所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域。

9.根据权利要求8所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述制作方法还包括：

在所述反射层上制作透明绝缘层，所述透明绝缘层完全覆盖所述反射层。

10.根据权利要求9所述的显示基板的制作方法，其特征在于，所述在基底上制作多个挡墙的步骤具体包括：

在所述基底上制作挡墙薄膜；

利用构图工艺对所述挡墙薄膜进行构图，形成多个挡墙；

所述在所述挡墙上制作反射层的步骤具体包括：

在所述挡墙朝向所述开口区域的至少部分区域沉积反射层；

所述在所述反射层上制作透明绝缘层的步骤具体包括：

在所述反射层上制作透明绝缘薄膜；

利用构图工艺对所述透明绝缘薄膜进行构图，形成透明绝缘层。