[发明专利]一种瑞舒伐他汀钙杂质及其制备方法与用途

说明书

本发明属医药技术领域，尤其涉及一种瑞舒伐他汀钙杂质及其制备方法与用途，该杂质及其相关光学异构体可通过瑞舒伐他汀钙氧化杂质Ⅲ及其光学异构体或瑞舒伐他汀钙Ⅳ及其相关光学异构体光降解后分离得到，该杂质为首次发现，其标准品可用于瑞舒伐他汀钙药物中杂质的定性分析、定量检测，解决了目前尚无该杂质的标准品作为分析对照的技术难题。同时解决了在该药物研究过程中无法对光照降解的未知杂质进行有效归属的难题，为深入研究瑞舒伐他汀钙药物的降解途径和降解机理提供了思虑，从而为研发更加安全、有效、质量可控的瑞舒伐他汀药物奠定了基础。

技术领域

本发明属医药技术领域，尤其涉及一种瑞舒伐他汀钙杂质及其制备方法与用途。

背景技术

瑞舒伐他汀钙具有式(Ⅳ)结构，是阿斯利康公司上市的他汀类药物，具有强有力的HMG-CoA还原酶抑制活性，其降低LDL-C、升高HDL-C的作用，优于已上市的其它他汀类药物，耐受性与安全性好，被誉为“超级他汀”，主要适用于原发性高胆固醇血症(Ⅱa型，包括杂合子家族性高胆固醇血症)或混合性脂血障碍(Ⅱb型)患者在节食或锻炼疗法效果不理想时的辅助治疗。

随着人们对用药安全要求的不断提高，对药品的质量以及药品原料药中的杂质均需进一步的明确和控制，因此药品原料药中杂质的研究成为本领域技术人员研究的重点。

瑞舒伐他汀钙原料药不稳定，在光照破坏下易产生其他杂质，目前在“瑞舒伐他汀钙原料药中有关物质的测定”(现代药物与临床第29卷第6期603-606)中通过光照得到光降解产物式(Ⅴ)、式(Ⅵ)。除此二者外无其他光降解产物的相关报道与记载。

但是对于瑞舒伐他汀钙原料药中存在的其他光降解杂质，研究并取得这些化合物是非常有必要的，可用于瑞舒伐他汀钙生产过程中杂质的定性及定量分析，有利于推动瑞舒伐他汀钙药品质量标准的提高，进一步保障瑞舒伐他汀钙药品的用药安全。

发明内容

针对以上情况，本发明提供了一种瑞舒伐他汀钙杂质及其制备方法与用途，该杂质为首次发现，其标准品可用于瑞舒伐他汀钙药物中杂质的分析、检测，解决了目前尚无该杂质的标准品作为分析对照的技术难题。

本发明的第一个目的是提出一种化合物，所述化合物包括式I或式II所示的化学结构式：

式I中，R为金属离子，包括钠离子、钾离子、钙离子、镁离子、锌离子、铵离子、锂离子中的一种或多种。

进一步的，所述化合物的式I结构为：

本发明的第二个目的是提出上述化合物的制备方法，所述化合物是通过将瑞舒伐他汀钙氧化杂质Ⅲ或瑞舒伐他汀钙Ⅳ经过光照后得到，所述瑞舒伐他汀钙氧化杂质Ⅲ和瑞舒伐他汀钙Ⅳ的化学结构式如下：

进一步的，瑞舒伐他汀钙氧化杂质Ⅲ或瑞舒伐他汀钙Ⅳ经过光照后得到式II化合物，在式II化合物中加入氯化钙水溶液得到式I化合物。

进一步的，所述化合物是通过将瑞舒伐他汀钙氧化杂质Ⅲ或瑞舒伐他汀钙Ⅳ置于溶剂内经过光照后得到。

进一步的，所述溶剂包括卤代烷、醇类溶剂、DMF、DMSO、丙酮、乙腈或水中的任一种或多种。

进一步的，所述卤代烷包括二氯甲烷、三氯甲烷、1,1-二氯乙烷、1,2-二氯乙烷中的任一种或多种。

进一步的，所述醇类溶剂包括甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、正丁醇中的任一种或多种。

进一步的，光照条件为3000-10000Lx，光照3-30天。