[发明专利]一种硅片承载装置

说明书

本申请公开了一种硅片承载装置，涉及硅片加工制造领域，包括一放置架，该放置架具有：一前挡板，该前挡板外侧设置有一把手；一后挡板，该后挡板与前挡板相对设置；一底板，该底板设置在前挡板和后挡板之间，底板一端与前挡板连接，另一端与后档板连接；立柱，该立柱的数量大于等于二，立柱分为两排相对地固定在底板上，且具有：凹槽，该凹槽竖直设置在立柱内侧，凹槽内侧壁上设置有：顶块一，该顶块一由弹性体材料制成。本申请通过在凹槽之中设置顶块，解决了现有技术中硅片放置架不稳定的问题。

技术领域

本申请涉及硅片加工技术领域，特别涉及到一种硅片承载装置。

背景技术

在硅片的生产过程中，具有切割、清洗、镀镍、光刻等多个工序，在硅片切割完毕之后，需要一个承载装置用于放置硅片，并将硅片转移至下一道工序进行进一步的加工，故该硅片承载装置需要满足便于移动、稳定性高的要求。

如在公开号为CN104282602A的中国发明专利中，公开了一种“硅片放置架”，其通过在两块竖直相对设置的板块之间设置若干竖直凹槽，并在该竖直凹槽的下端设置与硅片边缘形状相应的向内的圆弧，使硅片能够固定在竖直凹槽中，再通过设置在放置架本体上端的提手进行硅片的搬运。但是，在上述技术方案中，要实现硅片顺利放置在竖直凹槽中，该竖直凹槽的宽度要略宽于硅片，导致竖直凹槽与硅片之间存在空隙，使硅片不能稳定放置在竖直凹槽中，若在硅片搬运过程中或加工过程中产生较大的震荡，竖直凹槽会对硅片造成损害，或是硅片直接从竖直凹槽中滑出，影响硅片的加工效率。

发明内容

本申请的目的是提供一种硅片承载装置，解决现有技术中硅片放置架不稳定的问题，保证硅片在搬运和清洗过程中的稳定性。

为实现上述目的，本申请实施例采用以下技术方案：一种硅片承载装置，包括一放置架，该放置架具有：一前挡板，该前挡板外侧设置有一把手；一后挡板，该后挡板与前挡板相对设置；一底板，该底板设置在前挡板和后挡板之间，底板一端与前挡板连接，另一端与后档板连接；立柱，该立柱的数量大于等于二，立柱分为两排相对地固定在底板上，且具有：凹槽，该凹槽竖直设置在立柱内侧，凹槽内侧壁上设置有：顶块一，该顶块一由弹性体材料制成。

在上述技术方案中，本申请实施例通过在凹槽之中设置顶块，解决了现有技术中硅片放置架不稳定的问题。在本实施例中，顶块有橡胶等柔软的弹性体材料制成，将硅片插入凹槽中时，硅片挤压顶块向下插入，而顶块将压力反作用于硅片，使顶块与硅片紧密接触，能够实现完全固定硅片。

进一步地，根据本申请实施例，立柱底部具有底座，凹槽从立柱的顶端延伸至该底座，凹槽在底座处为弧形。通过在立柱底部设置底座并在底座上设置弧形凹槽，使凹槽整体的形状与硅片的侧边轮廓保持一致，能够更好地通过凹槽夹紧硅片，实现完全固定硅片。

进一步地，根据本申请实施例，凹槽内侧底部设置有水流孔一。通过该水流孔一，可以将水流导入凹槽内，使本放置架能够直接装载硅片进行超声波水洗，并对硅片的边缘区域(包裹在凹槽内)进行清洗。

进一步地，根据本申请实施例，凹槽内侧底部还设置有水流槽一，该水流槽一设置在水流孔一之间。水流槽一设置在凹槽的底部，能够对水流进行导流，从而对硅片的侧边进行清洗。

进一步地，根据本申请实施例，立柱上端设置有横杆，该横杆一端与前挡板连接，另一端与后挡板连接。通过该横杆，能够加强立柱的支撑能力，是本放置架更加稳定。

进一步地，根据本申请实施例，横杆内侧设置有缺口，该缺口与所述凹槽一一对应。通过该缺口，使硅片能够从缺口处插入凹槽，增加本放置架的便利程度。

进一步地，根据本申请实施例，横杆上设置有卡扣，该卡扣通过铰接件与横杆连接，铰接件与横杆同向设置。该卡扣能够绕横杆翻转，当硅片插入至凹槽之中时，可以将卡扣翻转至硅片上方，并将硅片的上边缘卡入卡扣中，进一步固定硅片，提高硅片放置的稳定性。