[发明专利]一种光学测距装置及方法在审

专利信息
申请号: 201810779309.3 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN108896007A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 吴德生;林高 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: G01C3/00 分类号: G01C3/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 邓义华;廖苑滨
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 衍射光学系统 光源 凸透镜 光学测距装置 距离变化 刻度盘 固定距离 夹角设置 逐渐增大 图案
【说明书】:

发明公开了一种光学测距装置及方法,用于测得接受场的距离,包括第一衍射光学系统和第二衍射光学系统,其中第一衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第一DOE、第一凸透镜和第一光源,第二衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第二DOE、第二凸透镜和第二光源;所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘,刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈,所述圈的不同大小代表接受场的不同固定距离;所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案,且第二衍射光学系统与第一衍射光学系统呈一夹角设置,结构简单,造价低。

技术领域

本发明涉及光学测距技术领域,更具体地涉及一种光学测距装置及方法。

背景技术

在现有技术中,利用光学原理进行目标物距离的测量已公开使用了多种方法和装置,例如利用光和成像装置(如相机)进行测距的方法非常有效,但是该测距装置的结构复杂,成本较高。

因此,需要一种能够解决上述问题的光学测距装置以及相应的方法。

发明内容

为了解决所述现有技术的不足,本发明提供了一种成本低的光学测距装置及方法。

本发明所要达到的技术效果通过以下方案实现:一种光学测距装置,用于测得接受场的距离,包括第一衍射光学系统和第二衍射光学系统,其中第一衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第一DOE、第一凸透镜和第一光源,第二衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第二DOE、第二凸透镜和第二光源;所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘,刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈,所述圈的不同大小代表接受场的不同固定距离;所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案,且第二衍射光学系统与第一衍射光学系统呈一夹角设置。

优选地,所述第一光源为红光,波长为1064nm。

优选地,所述第二光源为绿光,波长为550nm。

优选地,所述图案为圆形,图案的颜色与第二光源的颜色相同。

一种光学测距方法,用于测得接受场的距离,包括以下步骤:

S1:提供第一衍射光学系统,包括第一光源和第二衍射光学组件,其中第一衍射光学组件形成在第一光源与接收场之间,所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘,刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈,所述圈的不同大小代表接受场的不同固定距离;

S2:提供第二衍射光学系统,包括第二光源和第二衍射光学组件,其中第二衍射光学组件设置在第二光源与接收场之间,所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案;

S3:调节第二衍射光学系统,使第二衍射光学组件的图案中心与第一衍射光学组件的刻度盘中心重合;

S4:根据步骤S3中图案的外围与刻度盘上的圈重合的位置,读出接受场的距离。

优选地,所述第一光源为红光,波长为1064nm。

优选地,所述第二光源为绿光,波长为550nm。

优选地,所述图案为圆形,图案的颜色与第二光源的颜色相同。

本发明具有以下优点:

本发明实施的测距装置及方法与现有产品的测距装置和方法相比结构简单,造价低。

附图说明

图1为本发明光学测距装置中第一衍射光学系统的结构及原理示意图;

图2为本发明光学测距装置中第二衍射光学系统的结构及原理示意图;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于信利光电股份有限公司,未经信利光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810779309.3/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top