[发明专利]一种光学测距装置及方法在审

专利信息
申请号: 201810779309.3 申请日: 2018-07-16
公开(公告)号: CN108896007A 公开(公告)日: 2018-11-27
发明(设计)人: 吴德生;林高 申请(专利权)人: 信利光电股份有限公司
主分类号: G01C3/00 分类号: G01C3/00
代理公司: 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 代理人: 邓义华;廖苑滨
地址: 516600 广东省汕*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 衍射光学系统 光源 凸透镜 光学测距装置 距离变化 刻度盘 固定距离 夹角设置 逐渐增大 图案
【权利要求书】:

1.一种光学测距装置,其特征在于,用于测得接受场的距离,包括第一衍射光学系统和第二衍射光学系统,其中第一衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第一DOE、第一凸透镜和第一光源,第二衍射光学系统包括依次远离接受场设置的第二DOE、第二凸透镜和第二光源;所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘,刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈,圈的不同大小代表接受场的不同固定距离;所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案,且第二衍射光学系统与第一衍射光学系统呈一夹角设置。

2.如权利要求1所述的光学测距装置,其特征在于,所述第一光源为红光,波长为1064nm。

3.如权利要求1所述的光学测距装置,其特征在于,所述第二光源为绿光,波长为550nm。

4.如权利要求1所述的光学测距装置,其特征在于,所述图案为圆形,图案的颜色与第二光源的颜色相同。

5.一种光学测距方法,用于测得接受场的距离,其特征在于,包括以下步骤:

S1:提供第一衍射光学系统,包括第一光源和第二衍射光学组件,其中第一衍射光学组件形成在第一光源与接收场之间,所述第一衍射光学系统用于产生大小不随第一光源和接受场的距离变化而变化的刻度盘,刻度盘上包括有若干个从内向外逐渐增大的圈,圈的不同大小代表接受场的不同固定距离;

S2:提供第二衍射光学系统,包括第二光源和第二衍射光学组件,其中第二衍射光学组件设置在第二光源与接收场之间,所述第二衍射光学系统用于产生大小随第二光源和接受场的距离变化而变化的图案;

S3:调节第二衍射光学系统,使第二衍射光学组件的图案中心与第一衍射光学组件的刻度盘中心重合;

S4:根据步骤S3中图案的外围与刻度盘上的圈重合的位置,读出接受场的距离。

6.如权利要求5所述的光学测距方法,其特征在于,所述第一光源为红光,波长为1064nm。

7.如权利要求5所述的光学测距方法,其特征在于,所述第二光源为绿光,波长为550nm。

8.如权利要求5所述的光学测距方法,其特征在于,所述图案为圆形,图案的颜色与第二光源的颜色相同。

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