[发明专利]一种芯片生产用光刻机

说明书

本发明涉及芯片生产设备领域，具体的说是一种芯片生产用光刻机，包括底板、高度调节结构、工作台、检测结构、LED灯、积尘结构和真空泵；底板与用于放置芯片的工作台之间设有调节高度的高度调节结构；工作台的内部设有提供负压的真空泵；工作台上设有用于检测芯片的LED灯与用于放置芯片的检测结构；工作台的底端设有用于收纳灰尘的积尘结构。本发明的真空泵配合检测结构的使用实现了积尘结构的内部负压，便于将检测结构上的芯片上的灰尘废屑压进积尘结构的内部，便于快速的处理光刻后的灰尘，工作台上设置的LED灯配合检测结构的使用便于在处理灰尘的同时对光刻的芯片进行检测，节省了了加工工序的时间，大大提高了工作效率。

技术领域

本发明涉及芯片生产设备领域，具体的说是一种芯片生产用光刻机。

背景技术

光刻机(Mask Aligner)又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。常用的光刻机是掩膜对准光刻，一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序，在对芯片光刻加工后需要及时的去除芯片的灰尘及其检测光刻的质量。

然而传统的芯片生产用光刻机在光刻芯片完成后灰尘处理不方便，在使用后不方便检测光刻质量。鉴于此，本发明提供了一种芯片生产用光刻机，其具有以下特点：

(1)本发明所述的一种芯片生产用光刻机，真空泵配合检测结构的使用实现了积尘结构的内部负压，便于将检测结构上的芯片上的灰尘废屑压进积尘结构的内部，便于快速的处理光刻后的灰尘。

(2)本发明所述的一种芯片生产用光刻机，工作台上设置的LED灯配合检测结构的使用便于在处理灰尘的同时对光刻的芯片进行检测，节省了了加工工序的时间，大大提高了工作效率。

(3)本发明所述的一种芯片生产用光刻机，高度调节结构设于工作台与底板之间，便于根据使用者的身高调节工作台的高度，提高了使用舒适度。

发明内容

针对现有技术中的问题，本发明提供了一种芯片生产用光刻机，真空泵配合检测结构的使用实现了积尘结构的内部负压，便于将检测结构上的芯片上的灰尘废屑压进积尘结构的内部，便于快速的处理光刻后的灰尘，工作台上设置的LED灯配合检测结构的使用便于在处理灰尘的同时对光刻的芯片进行检测，节省了了加工工序的时间，大大提高了工作效率，高度调节结构设于工作台与底板之间，便于根据使用者的身高调节工作台的高度，提高了使用舒适度。

本发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种芯片生产用光刻机，包括底板、高度调节结构、工作台、检测结构、LED灯、积尘结构和真空泵；所述底板与用于放置芯片的所述工作台之间设有调节高度的所述高度调节结构，且所述高度调节结构与所述工作台可拆卸连接；所述工作台的内部设有提供负压的所述真空泵；所述工作台上设有用于检测芯片的所述LED灯与用于放置芯片的所述检测结构，且所述检测结构与所述工作台卡合；所述工作台的底端设有用于收纳灰尘的所述积尘结构，所述积尘结构与所述检测结构一一对应，所述积尘结构与所述工作台卡合。

具体的，所述底板上设有用于收纳工具的存储结构，所述存储结构包括支撑架、存储箱和提手，用于支撑的所述支撑架固定于所述底板，所述支撑架的内部设有多个大小不同的用于存储工具的矩形结构的所述存储箱，所述存储箱与所述支撑架滑动连接，所述存储箱的端部设有所述提手；在使用时候，拉动所述提手，所述存储箱与所述支撑架滑动连接，将生活用具放置在所述存储箱的内部，所述存储箱的设置便于收纳生活用具，大大提高了加工环境的整洁性。