[发明专利]一种芯片生产用光刻机有效

专利信息
申请号: 201810754955.4 申请日: 2018-07-11
公开(公告)号: CN108873619B 公开(公告)日: 2020-11-20
发明(设计)人: 韩珂;韩丹丹;韩士双;陈涛 申请(专利权)人: 深圳市克拉尼声学科技有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 北京高航知识产权代理有限公司 11530 代理人: 乔浩刚
地址: 518101 广东省深圳市宝安区西*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 芯片 生产 用光
【权利要求书】:

1.一种芯片生产用光刻机,其特征在于:包括底板(1)、高度调节结构(3)、工作台(4)、检测结构(6)、LED灯(7)、积尘结构(8)和真空泵(9);所述底板(1)与用于放置芯片的所述工作台(4)之间设有调节高度的所述高度调节结构(3),且所述高度调节结构(3)与所述工作台(4)可拆卸连接;所述工作台(4)的内部设有提供负压的所述真空泵(9);所述工作台(4)上设有用于检测芯片的所述LED灯(7)与用于放置芯片的所述检测结构(6),且所述检测结构(6)与所述工作台(4)卡合;所述工作台(4)的底端设有用于收纳灰尘的所述积尘结构(8),所述积尘结构(8)与所述检测结构(6)一一对应,所述积尘结构(8)与所述工作台(4)卡合;

所述底板(1)上设有用于收纳工具的存储结构(2),所述存储结构(2)包括支撑架(21)、存储箱(22)和提手(23),用于支撑的所述支撑架(21)固定于所述底板(1),所述支撑架(21)的内部设有多个大小不同的用于存储工具的矩形结构的所述存储箱(22),所述存储箱(22)与所述支撑架(21)滑动连接,所述存储箱(22)的端部设有所述提手(23);

所述高度调节结构(3)包括滑套(31)、限位槽(32)、调节杆(33)、限位杆(34)、驱动套(35)、连接杆(36)和固定套(37);所述底板(1)的底端设有四个用于导向的圆柱体结构的所述滑套(31),所述滑套(31)背离所述底板(1)的一端圆周方向上设有三棱柱结构的用于二次限位的所述限位槽(32),所述滑套(31)的内部设有圆柱体结构的带有外螺纹的用于调节高度的圆柱体结构的所述调节杆(33),所述调节杆(33)上设有用于导向的正六边形结构的所述连接杆(36),所述连接杆(36)与固定于所述工作台(4)底端的所述固定套(37)转动连接,所述连接杆(36)上设有滑动连接的用于驱动的正六边形结构的所述驱动套(35),所述驱动套(35)的底端设有两个用于配合所述限位槽(32)滑动限位的所述限位杆(34);

所述真空泵(9)的一端的所述工作台(4)上设有可拆卸连接的矩形结构的用于检修维护的检修板(5);

所述检测结构(6)包括密封圈(61)、导流槽(62)、支撑板(63)、气垫(64)和放置槽(65),所述工作台(4)上设有棱台形结构的用于放置芯片的所述放置槽(65),所述放置槽(65)的侧壁设有用于检测的所述LED灯(7),用于放置芯片矩形结构的所述支撑板(63)贯穿于所述放置槽(65)与所述工作台(4)卡合,所述支撑板(63)与所述工作台(4)之间夹持于所述密封圈(61),所述支撑板(63)上设有限性分布的横截面为梯形的用于聚流的所述导流槽(62),相邻的两个所述导流槽(62)之间的所述支撑板(63)上设有线性分布的带有容纳空腔的半球形结构的所述气垫(64);

所述积尘结构(8)包括导向杆(81)、拉杆(82)、收纳箱(83)、排风孔(84)、积灰凸起(85)和密封垫(86),所述收纳箱(83)与所述工作台(4)滑动连接,用于积尘的所述收纳箱(83)与所述支撑板(63)抵触,所述收纳箱(83)的底端设有三棱柱体结构的用于限位的与所述工作台(4)滑动连接的所述导向杆(81),所述收纳箱(83)的一端设有所述拉杆(82),所述收纳箱(83)与所述工作台(4)交接处设有横截面为梯形结构的用于密封的所述密封垫(86),且所述密封垫(86)与所述工作台(4)抵触,所述收纳箱(83)的侧壁设有带有半球形容纳空腔的半球形结构的用于积灰的所述积灰凸起(85),所述积灰凸起(85)靠近所述支撑板(63)的一端设有用于排风的连通于所述真空泵(9)的圆台形结构的所述排风孔(84)。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于深圳市克拉尼声学科技有限公司,未经深圳市克拉尼声学科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810754955.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top