[发明专利]基板翘曲监视装置、基板处理装置及基板翘曲监视方法有效
申请号: | 201810731772.0 | 申请日: | 2018-07-05 |
公开(公告)号: | CN109216237B | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 千叶俊弥;佐佐木祐也;田口纯之介 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基板翘曲 监视 装置 处理 方法 | ||
本发明的目的在于提供一种能够监视旋转台旋转过程中的基板的翘曲、能够预测基板的脱离的基板翘曲监视装置、基板处理装置以及基板翘曲监视方法。基板翘曲监视装置对在旋转台上沿周向设置的基板载置区域上载置的基板在旋转台旋转过程中的翘曲进行监视,基板翘曲监视装置具有:光学式位移计,其能够从旋转台的上方向旋转台上的规定位置照射光并接收来自旋转台旋转而通过所述规定位置的旋转台和基板的反射光,来测量基板的表面特征;存储单元,其存储将光照射于规定的参照面时的测量值来作为参照值;以及运算单元,其基于光学式位移计测量出的基板的表面特征和存储单元中存储的参照值来计算基板的翘曲量。
技术领域
本发明涉及一种基板翘曲监视装置和使用该基板翘曲监视装置的基板处理装置以及基板翘曲监视方法。
背景技术
自以往以来已知一种在基板处理装置中使用的基板脱离检测装置,所述基板处理装置在大致水平地设置于腔室内的旋转台的表面上形成的基板载置用的凹部上载置有基板的状态下使所述旋转台连续旋转,进行所述基板的处理,所述基板脱离检测装置具有基板脱离判定单元,所述基板脱离判定单元在所述旋转台的旋转过程中判定所述凹部上的所述基板的有无,由此判定所述基板是否从所述凹部脱离了(例如参照专利文献1)。
在该基板脱离检测装置中,设置对旋转台的用于载置基板的凹部处设置的升降销用的贯通孔的温度进行检测的辐射温度计,根据温度差来检测基板的脱离,或者设置拍摄凹部的摄像单元来检测基板的脱离,若基板脱离了,则使旋转台的旋转停止。
专利文献1:日本特开2015-8269号公报
发明内容
然而,在上述的专利文献1所记载的结构中,尽管能够检测是否发生了基板的脱离,但不能够预测基板的脱离,因此必须进行事后的应对,尽管能够减小腔室内的损伤、不良晶圆的产生等损害,但不能够完全地阻止损害。
因此,本发明的目的在于提供一种能够对旋转台旋转过程中的基板的翘曲进行监视、能够预测基板的脱离的基板翘曲监视装置和使用该基板翘曲监视装置的基板处理装置以及基板翘曲监视方法。
为了达成上述目的,本发明的一个方式所涉及的基板翘曲监视装置对在旋转台上沿周向设置的基板载置区域上载置的基板在所述旋转台旋转过程中的翘曲进行监视,所述基板翘曲监视装置具有:光学式位移计,其能够从所述旋转台的上方向所述旋转台的规定位置照射光,接收来自所述旋转台旋转而通过所述规定位置的所述旋转台和所述基板的反射光,来测量所述基板的表面特征;存储单元,其存储将所述光照射于规定的参照面时的测量值来作为参照值;以及运算单元,其基于所述光学式位移计测量出的所述基板的表面特征和所述存储单元中存储的参照值来计算所述基板的翘曲量。
根据本发明,能够监视基板的翘曲量,能够预测基板的脱离。
附图说明
图1是表示本发明的实施方式所涉及的基板翘曲监视装置和使用该基板翘曲监视装置的基板处理装置的一例的结构图。
图2是应用本发明的实施方式所涉及的基板翘曲监视装置的基板处理装置的内部构造的立体图。
图3是应用本发明的实施方式所涉及的基板翘曲监视装置的基板处理装置的内部构造的俯视图。
图4是表示腔室的沿着旋转台的同心圆的截面的图。
图5是表示腔室内的设置有顶面的区域的截面图。
图6是用于说明本发明的第一实施方式所涉及的基板翘曲监视装置的基本原理的图。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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