[发明专利]薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示面板

说明书

本公开提供一种薄膜晶体管，包括：衬底基板、布置在衬底基板上的有源层和源漏极以及直接布置在有源层上且与源漏极电连接的导电层，其中有源层和导电层的外边缘在同一个刻蚀步骤中形成。本公开还提供一种制作薄膜晶体管的方法，包括：形成有源材料层，并在有源材料层上形成导电材料层；在导电材料层上涂布光刻胶；利用半色调掩模对光刻胶进行曝光显影，使得光刻胶形成光刻胶完全去除区、光刻胶完全保留区和光刻胶部分保留区；利用同一刻蚀工艺移除光刻胶完全去除区对应的有源材料层和导电材料层，以形成有源层与图案化的导电材料层的叠层；部分移除光刻胶完全保留区的光刻胶，并完全移除光刻胶部分保留区的光刻胶；以及，移除光刻胶部分保留区对应的所述导电材料层，以形成导电层。

技术领域

本公开涉及显示技术领域，具体涉及薄膜晶体管及其制作方法、阵列基板和显示面板。

背景技术

氧化物薄膜晶体管目前广泛应用于显示面板中。然而，常见的制作薄膜晶体管的方法可能引起显示面板中的各薄膜晶体管的栅极阈值电压不一致的问题。这会降低面板的显示质量。

发明内容

根据本公开的一方面，提供了一种薄膜晶体管，包括：

- 衬底基板，

- 布置在所述衬底基板上的有源层和源漏极，以及

- 直接布置在所述有源层上且与所述源漏极电连接的导电层，

其中所述有源层和所述导电层的外边缘在同一个刻蚀步骤中形成。

在一些实施例中，所述导电层所包含的导电材料的功函数与所述有源层所包含的有源材料的功函数相匹配。

在一些实施例中，所述导电材料是ITO或IZO，并且所述有源材料是IGZO或ITZO。

在一些实施例中，所述导电层在所述衬底基板上的正投影在所述有源层的正投影之内。

在一些实施例中，在背离所述衬底基板的方向上，按顺序布置有所述有源层、所述导电层、栅极和所述源漏极。

根据本公开的另一方面，提供了一种阵列基板，包括根据本公开实施例的薄膜晶体管。

根据本公开的又一方面，提供了一种显示面板，包括根据本公开实施例的阵列基板。

根据本公开的再一方面，提供了一种制作薄膜晶体管的方法，包括：

- 形成有源材料层，并在所述有源材料层上形成导电材料层，

- 在所述导电材料层上形成光刻胶，

- 利用半色调掩模对所述光刻胶进行曝光显影，使得所述光刻胶形成光刻胶完全去除区、光刻胶完全保留区和光刻胶部分保留区，

- 利用同一刻蚀工艺移除所述光刻胶完全去除区对应的有源材料层和导电材料层，以形成有源层与图案化的导电材料层的叠层，

- 部分移除所述光刻胶完全保留区的光刻胶，并完全移除所述光刻胶部分保留区的光刻胶，以及

- 移除所述光刻胶部分保留区对应的所述导电材料层，以形成导电层。

在一些实施例中，所述利用同一刻蚀工艺移除所述光刻胶完全去除区对应的有源材料层和导电材料层，以形成有源层与图案化的导电材料层的叠层的步骤包括：采用湿法刻蚀工艺刻蚀所述光刻胶完全去除区对应的有源材料层和导电材料层。

在一些实施例中，所述利用同一刻蚀工艺移除所述光刻胶完全去除区对应的有源材料层和导电材料层，以形成有源层与图案化的导电材料层的叠层的步骤包括：用同一种刻蚀液刻蚀所述有源材料层和所述导电材料层。

在一些实施例中，所述有源材料层所包含的有源材料是IGZO或ITZO，并且所述导电材料层所包含的导电材料是ITO或IZO。