[发明专利]显示面板及其制造方法

权利要求书

1.一种显示面板，包括显示区域及弯折区域，其特征在于，所述显示面板包含：

一柔性基板；

一蚀刻阻挡层，设于所述柔性基板上；

一无机材料功能层，设于所述蚀刻阻挡层上，所述柔性基板、蚀刻阻挡层及无机材料功能层包含所述显示区域及弯折区域；

一平坦层，设于所述无机材料功能层上；及

阳极及像素定义层，依序形成于所述平坦层上；

其中所述弯折区域包括设在所述蚀刻阻挡层上的沟槽，其通过蚀刻穿透所述无机材料功能层，所述沟槽内填充有聚合物材料，所述弯折区域及显示区域通过信号线连接，其中所述柔性基板包括基板及设于所述基板上的第一聚酰亚胺层，且所述蚀刻阻挡层位于所述第一聚酰亚胺层及所述沟槽之间。

2.如权利要求1的显示面板，其特征在于，所述蚀刻阻挡层包含三氧化二铝。

3.如权利要求1的显示面板，其特征在于，所述无机材料功能层包括第一屏障层，设于所述蚀刻阻挡层上；一缓冲层，其设于所述第一屏障层上；及一结构膜层，设于所述缓冲层上。

4.如权利要求3的显示面板，其特征在于，所述无机材料功能层的缓冲层及第一屏障层之间还包括有第二聚酰亚胺层及第二屏障层，且所述第二聚酰亚胺层设于所述第一屏障层和第二屏障层之间。

5.如权利要求3的显示面板，其特征在于，所述第一屏障层是以氧化硅或氮化硅及氧化硅沉积而成。

6.如权利要求3的显示面板，其特征在于，所述缓冲层是以氧化硅或氮化硅及氧化硅沉积而成。

7.如权利要求3的显示面板，其特征在于，所述结构膜层包括多晶硅层、栅极层及介电层。

8.如权利要求1的显示面板，其特征在于，所述蚀刻阻挡层和所述柔性基板之间更沉积一层氮化硅层或氧化硅层。

9.一种制造显示面板的方法，所述显示面板包括显示区域及弯折区域，其特征在于所述方法包含：

提供一柔性基板；

在所述柔性基板上镀上一蚀刻阻挡层；

在所述蚀刻阻挡层上形成一无机材料功能层，所述柔性基板、蚀刻阻挡层及无机材料功能层包含所述显示区域及弯折区域；

在所述无机材料功能层上形成一平坦层，阳极及像素定义层；及

在所述弯折区域形成位在所述蚀刻阻挡层上的沟槽，其通过蚀刻穿透所述无机材料功能层，并于沟槽内填充有聚合物材料，所述弯折区域及显示区域通过信号线连接，其中所述柔性基板包括基板及设于所述基板上的第一聚酰亚胺层，且所述蚀刻阻挡层位于所述第一聚酰亚胺层及所述沟槽之间。

10.如权利要求9的制造显示面板的方法，其特征在于，所述蚀刻阻挡层包含三氧化二铝。

11.如权利要求9的制造显示面板的方法，其特征在于，所述无机材料功能层包括第一屏障层，设于所述蚀刻阻挡层上；一缓冲层，设于所述第一屏障层上，及一结构膜层，设于所述缓冲层上。

12.如权利要求11的制造显示面板的方法，其特征在于，所述无机材料功能层的缓冲层及第一屏障层之间还包括有第二聚酰亚胺层及第二屏障层，且所述第二聚酰亚胺层设于所述第一及第二屏障层之间。

13.如权利要求11的制造显示面板的方法，其特征在于，所述结构膜层包括有多晶硅层、栅极层及介电层。