[发明专利]一种Demura检测中去除灰尘干扰的方法及装置在审

专利信息
申请号: 201810698019.6 申请日: 2018-06-29
公开(公告)号: CN108961185A 公开(公告)日: 2018-12-07
发明(设计)人: 相文波;姚毅;时广军;马增婷;路建伟 申请(专利权)人: 凌云光技术集团有限责任公司
主分类号: G06T5/00 分类号: G06T5/00
代理公司: 北京弘权知识产权代理事务所(普通合伙) 11363 代理人: 逯长明;许伟群
地址: 100094 北京市海淀*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 灰尘区域 像素 检测 灰尘图像 高灰阶 去除 图像 目前画面 像素坐标 截取 屏蔽 矫正 申请 采集
【权利要求书】:

1.一种Demura检测中去除灰尘干扰的方法,其特征在于,包括:

采集图像,所述图像包括OLED屏的高灰阶图像和灰尘图像;

根据所述图像,截取OLED屏的灰尘区域;

提取所述灰尘区域的像素灰度信息,所述灰度信息包括灰尘区域的像素以及每一个像素的坐标;

根据所述像素灰度信息,进行Demura检测。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据图像,截取OLED屏的灰尘区域的步骤包括:

根据所述高灰阶图像,划分OLED屏区域;

根据所述灰度图像,划分全局的灰尘区域;

根据所述OLED屏区域和所述灰尘区域,截取OLED屏的灰尘区域。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述提取灰尘区域的像素灰度信息的步骤包括:

构建像素网格,形成OLED坐标系;

根据所述像素网格和所述OLED坐标系,映射所述灰尘区域;

根据所述映射后的灰尘区域,提取所述灰尘区域的像素灰度信息。

4.根据权利要求3所述的方法,其特征在于,所述根据映射后的灰尘区域,提取所述灰尘区域的像素灰度信息的步骤包括:

根据所述映射后的灰尘区域,提取所述灰尘区域的像素;

根据所述灰尘区域的像素和所述OLED坐标系,提取每一个像素的坐标。

5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述根据所述像素灰度信息,进行Demura检测的步骤包括:

测量OLED屏上每一个像素的亮度数据;

根据所述亮度数据和所述像素灰度信息,调整每一个像素点的亮度,以使所有像素点灰度一致,从而消除色斑。

6.一种Demura检测中去除灰尘干扰的装置,其特征在于,包括:

图像采集模块,用于采集图像,所述图像包括OLED屏的高灰阶图像和灰尘图像;

截取模块,用于根据所述图像,截取OLED屏的灰尘区域;

信息提取模块,用于提取所述灰尘区域的像素灰度信息,所述灰度信息包括灰尘区域的像素以及每一个像素的坐标;

检测模块,用于根据所述像素灰度信息,进行Demura检测。

7.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述截取模块包括:

屏区域划分模块,用于根据所述高灰阶图像,划分OLED屏区域;

灰尘区域划分模块,用于根据所述灰度图像,划分全局的灰尘区域;

灰尘区域截取模块,用于根据所述OLED屏区域和所述灰尘区域,截取OLED屏的灰尘区域。

8.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述信息提取模块包括:

网格构建模块,用于构建像素网格,形成OLED坐标系;

映射模块,用于根据所述像素网格和所述OLED坐标系,映射所述灰尘区域;

灰度信息提取模块,用于根据所述映射后的灰尘区域,提取所述灰尘区域的像素灰度信息。

9.根据权利要求8所述的装置,其特征在于,所述灰度信息提取模块包括:

像素提取模块,用于根据所述映射后的灰尘区域,提取所述灰尘区域的像素;

坐标提取模块,用于根据所述灰尘区域的像素和所述OLED坐标系,提取每一个像素的坐标。

10.根据权利要求6所述的装置,其特征在于,所述检测模块包括:

亮度测量模块,用于测量OLED屏上每一个像素的亮度数据;

像素调整模块,用于根据所述亮度数据和所述像素灰度信息,调整每一个像素点的亮度,以使所有像素点灰度一致,从而消除色斑。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于凌云光技术集团有限责任公司,未经凌云光技术集团有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810698019.6/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top