[发明专利]曝光流程控制方法、装置、设备及介质

说明书

本发明实施例公开了一种曝光流程控制方法、装置、设备及介质，所述方法包括：接收携带有曝光状态的曝光指令；根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作；根据所述目标操作生成目标操作指令，并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。本发明实施例提供的曝光流程控制方法使得曝光指令更加简洁清楚，并且使曝光流程的控制指令不随部件类型的变化而更改，能够实现同一成像系统在不更换系统控制软件的情况下对不同类型部件的控制以完成曝光流程，当需要对部件进行更改或升级时，不需要调整主控模块的核心逻辑，使成像系统设计更加简化、合理，系统软件维护更加可靠，部件的升级或更换更加简便。

技术领域

本发明实施例涉及医疗设备领域，尤其涉及一种曝光流程控制方法、装置、设备及介质。

背景技术

随着计算机技术的发展，医学成像技术也得到了迅速的发展，各种医学成像设备不断涌现。不同医学成像设备的产生，带来了新的操作方式、新的操作功能和更高的工作效率，但是对这些设备的控制方法也提出了新的要求。

就目前而言，大部分成像系统采用传统软件封装方式，基于信号控制的部件封装设计，将部件的各个信号封装成信号控制方法，供成像系统的主控模块调用，实现曝光控制流程中对部件的控制。成像系统的主控模块根据不同部件的时序控制要求，以及不同部件的控制信号，区别控制，完成正常的控制时序，以控制该部件实现相应的功能。

以乳房X线成像设备为例，包括全数字化乳腺摄影(full-field digitalmammography，FFDM)设备和数字乳腺断层(Digital Breast Tomosynthesis，DBT)摄影设备。就数字乳腺断层摄影设备而言，其核心功能是断层摄影和3D图像重建，在该系统中同时还保持了FFDM的应用功能。系统的曝光控制一般以平板为核心，FFDM和DBT的曝光方式不同，其采用的平板类型也不同，针对不同类型平板的曝光流程控制，成像系统的设计者需要根据平板不同的控制特性采用不同控制流程和控制方法，从而导致系统的曝光控制流程分支较多，设计和维护较困难；曝光控制中由于多种类型的平板时序的不同从而导致在部件协同时需要更多的考虑兼容性和分支的合理性，给调试和后期维护带来较大不便。

发明内容

本发明实施例提供了一种曝光流程控制方法、装置、设备及介质，以实现同一成像系统在不更换系统控制程序软件的情况下对不同类型部件的控制以完成曝光流程，使成像系统设计更加简化、合理，系统软件维护更加可靠，部件的升级或更换更为简便。

第一方面，本发明实施例提供了一种曝光流程控制方法，包括：

接收携带有曝光状态的曝光指令；

根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作；

根据所述目标操作生成目标操作指令，并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。

第二方面，本发明实施例还提供了一种曝光流程控制方法，包括；

根据曝光触发参数确定当前的曝光状态，并生成携带有曝光状态的曝光指令，其中，所述曝光触发参数包括触发曝光开始的第一触发参数或各部件所反馈的各部件的执行状态的第二触发参数；

将所述曝光指令发送至部件控制模块，其中，所述曝光指令用于指示所述部件控制模块根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定所述部件与所述曝光状态所对应的目标操作。

第三方面，本发明实施例还提供了一种曝光流程控制方法，包括：

主控模块根据曝光触发参数确定当前的曝光状态，并生成携带有曝光状态的曝光指令；

所述主控模块将所述曝光指令发送至部件控制模块；

所述部件控制模块接收携带有曝光状态的曝光指令；