[发明专利]曝光流程控制方法、装置、设备及介质有效

专利信息
申请号: 201810676483.5 申请日: 2018-06-27
公开(公告)号: CN108919608B 公开(公告)日: 2023-07-25
发明(设计)人: 梁侃;李伟;唐定车;王艳 申请(专利权)人: 上海联影医疗科技股份有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G03B27/32
代理公司: 北京品源专利代理有限公司 11332 代理人: 孟金喆
地址: 201807 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 曝光 流程 控制 方法 装置 设备 介质
【权利要求书】:

1.一种曝光流程控制方法,其特征在于,应用于成像系统中的任一部件控制模块,其中,所述部件控制模块有多个,所述部件控制模块用于控制所述部件控制模块对应的一个部件,所述部件控制模块中预先设置有各曝光状态对应的操作,所述方法包括:

接收表示曝光状态的曝光指令,所述曝光指令对应曝光状态,用于控制部件在各曝光状态中切换,以完成部件的曝光流程,所述曝光指令包括曝光准备、曝光开始、曝光结束和曝光去使能的至少一种,所述曝光状态通过对不同的图像模式的拍摄流程进行划分得到;

根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作;

根据所述目标操作生成目标操作指令,并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,还包括:

当检测到所述目标操作完成时,将所述部件的状态信息反馈至主控模块。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,在所述根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态对应的目标操作之前,还包括:

预先建立各曝光状态与所述部件各操作之间的对应关系,根据所述对应关系确定所述部件与所述曝光状态所对应的目标操作。

4.一种曝光流程控制方法,其特征在于,应用于主控模块,包括:

根据曝光触发参数确定当前的曝光状态,并生成表示曝光状态的曝光指令,其中,所述曝光触发参数包括触发曝光开始的第一触发参数或各部件所反馈的各部件的执行状态的第二触发参数,所述曝光指令对应曝光状态,用于控制部件在各曝光状态中切换,以完成部件的曝光流程,所述曝光指令包括曝光准备、曝光开始、曝光结束和曝光去使能的至少一种,所述曝光状态通过对不同的图像模式的拍摄流程进行划分得到;

将所述曝光指令发送至部件控制模块,其中,所述部件控制模块有多个,所述曝光指令用于指示所述部件控制模块根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定所述部件与所述曝光状态所对应的目标操作。

5.一种曝光流程控制方法,其特征在于,包括:

主控模块根据曝光触发参数确定当前的曝光状态,并生成表示曝光状态的曝光指令,所述曝光指令对应曝光状态,用于控制部件在各曝光状态中切换,以完成部件的曝光流程,所述曝光指令包括曝光准备、曝光开始、曝光结束和曝光去使能的至少一种,所述曝光状态通过对不同的图像模式的拍摄流程进行划分得到;

所述主控模块将所述曝光指令发送至部件控制模块,所述部件控制模块用于控制所述部件控制模块对应的一个部件,其中,所述部件控制模块有多个;

所述部件控制模块接收表示曝光状态的曝光指令;

所述部件控制模块根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作;

所述部件控制模块根据所述目标操作生成目标操作指令,并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。

6.一种曝光流程控制装置,其特征在于,配置于成像系统中的任一部件控制模块,其中,所述部件控制模块有多个,所述部件控制模块用于控制所述部件控制模块对应的一个部件,所述部件控制模块中预先设置有各曝光状态对应的操作,所述装置包括:

曝光指令接收模块,用于接收表示曝光状态的曝光指令,所述曝光指令对应曝光状态,用于控制部件在各曝光状态中切换,以完成部件的曝光流程,所述曝光指令包括曝光准备、曝光开始、曝光结束和曝光去使能的至少一种,所述曝光状态通过对不同的图像模式的拍摄流程进行划分得到;

目标操作确定模块,用于根据所述曝光指令中的所述曝光状态确定部件与所述曝光状态所对应的目标操作;

操作指令生成模块,用于根据所述目标操作生成目标操作指令,并基于所述目标操作指令控制所述部件执行所述目标操作。

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