[发明专利]抛光装置和抛光方法

权利要求书

1.一种抛光装置，其特征在于，包括：

舱体，所述舱体内设有由隔离板分隔而成的第一腔体和第二腔体，所述隔离板用于使所述第一腔体和所述第二腔体之间连通或隔离，所述第一腔体内设有检测待抛元件形貌特征的检测设备，所述第二腔体内设有对待抛元件抛光的抛光设备。

2.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，还包括：

支撑平台，所述支撑平台活动连接于所述舱体内，使所述支撑平台能够活动至所述第一腔体或所述第二腔体内，所述支撑平台用于支撑待抛元件。

3.根据权利要求2所述的抛光装置，其特征在于，

所述舱体内设有第一滑轨，所述第一滑轨的两端分别延展至所述第一腔体和所述第二腔体内，所述支撑平台滑动连接于所述第一滑轨。

4.根据权利要求3所述的抛光装置，其特征在于，

所述支撑平台包括支撑部和转动平台，所述支撑部的一端滑动连接于所述第一滑轨，另一端连接于所述转动平台，所述转动平台用于支撑待抛元件。

5.根据权利要求4所述抛光装置，其特征在于，

所述支撑部包括第一基座、第二基座和升降器，所述第一基座滑动连接于所述第一滑轨，所述第一基座上设有第二滑轨，所述第二基座滑动连接于所述第二滑轨，所述第二基座通过所述升降器连接于所述转动平台。

6.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述抛光设备包括等离子体炬和等离子发生装置，所述等离子体炬连接于所述等离子发生装置，所述等离子体炬的输出端口朝向待抛元件。

7.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述第一腔体内设有第一摄像装置，所述第二腔体内设有第二摄像装置。

8.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，

所述第二腔体连接有排气管道，所述排气管道用于将所述第二腔体内的气体排出。

9.根据权利要求8所述的抛光装置，其特征在于，

所述排气管道连接于废气处理装置。

10.根据权利要求1所述的抛光装置，其特征在于，还包括：

处理系统，所述处理系统连接于所述检测设备和所述抛光设备，所述处理系统用于获取所述检测设备的检测参数，并根据所述检测参数控制所述抛光设备对待抛元件进行抛光。

11.一种抛光方法，用于如权利要求1至10中任一项所述的抛光装置，其特征在于，包括：

检测待抛元件，获取第一检测参数；

根据所述第一检测参数，对所述待抛元件进行抛光加工；

待所述待抛元件抛光加工后，再次检测所述待抛元件，获取第二检测参数；

判断所述第二检测参数是否在预设参数范围，若所述时间检测参数不在所述预设参数范围内，则根据所述第二检测参数，对所述待抛元件进行再次抛光加工。