[发明专利]一种显示基板及检测曝光异常的方法

说明书

本发明公开了一种显示基板：包括：矩阵排列的多个图案化曝光区以及位于在图案化曝光区外的第一间隔区和第二间隔区，还包括位于第一间隔区内的光致变色薄膜带；所述第一间隔区沿第一方向排列且位于相邻的图案化曝光区之间，所述第二间隔区沿第二方向排列且位于相邻的图案化曝光区之间，第一方向和第二方向相互垂直。通过在图案化曝光区之间的间隔区设置光致变色薄膜带，在曝光过后对光致变色薄膜带进行检测，实现对显示基板曝光效果的检测，及时控制曝光质量，防止出现批量曝光不良，同时防止曝光不良的产品继续后流造成其他材料的浪费。

技术领域

本发明涉及液晶显示技术领域，特别是一种加工过程中带有光致变色薄膜带的显示基板以及利用该显示基板进行检测曝光异常的方法。

背景技术

平板显示技术是21世纪全球新兴高新技术之一，在众多新型平板显示技术中，工艺最为成熟，应用最为广泛的当属薄膜晶体管液晶显示(Thin Film Transistor-LiquidCrystal Display，TFT-LCD)。TFT-LCD工作原理是在电场作用下，内部液晶分子会发生排列上的变化。液晶分子结构的变化从而影响通过其的光线变化，继而通过偏光片的作用可以表现为明暗的变化，再配合彩色滤光片(Color Filter，CF)，人们就可以实现通过对电场的控制最终控制光线的灰度和亮度变化，从而达到显示图像的目的。在TFT-LCD器件中，为了提高响应速度，需要液晶分子在电极界面处整齐排列并形成一定的预倾角，因此在生产过程中需要对TFT和CF基板表面的配向膜进行配向作业。目前主要配向技术分为摩擦配向和光配向，其中光配向技术主要使用紫外光对光敏感度高、稳定性好的配向材料进行光照配向。相比于摩擦配向技术，光配向具有非接触、无污染、无静电、可实现多畴配向等优点，因此得到广泛的应用。

紫外光垂直配向技术(UV2A)是一种典型的光配向技术，其原理是在光配向过程中，配向膜中的聚合高分子通过偏振紫外光照射后，由于高分子中趋光单体的存在，会使聚合高分子向光照方向偏移，从而形成液晶分子取向的角度。为了使液晶面板达到广视角的显示效果，UV2A工艺中需要使用拼接掩膜板对TFT或CF基板表面的子像素进行两次或多次双向照射。目前生产工艺中，为实现双向曝光，UV2A制程使用一半透光和一半遮光设计的掩膜板进行曝光作业，为保证曝光精度，需使用多块小型掩膜板进行拼接曝光。当所有子像素完成一次曝光配向后，基板旋转180度再对所有子像素未曝光区域进行反方向的曝光配向。

在正常曝光生产过程中，因照度不均，掩膜板刮透，掩膜板拼接偏移，机台漏光，追踪偏移等多种不确定因素的存在，会导致批量曝光Mura(曝光脏污问题)。在UV2A制程没有发现异常的情况下，曝光Mura只能到点灯甚至模组制程才能检出，此时前制程已累积产出很多不良基板。因曝光Mura不可逆的原因，不良基板只能降等甚至报废，造成巨大的生产浪费。目前生产工艺中并没有在曝光配向制程中直接检测曝光异常的方法。

发明内容

为了解决上述问题，本发明提供了一种带有光致变色薄膜带的显示基板以及使用该显示基板实现检测曝光异常的方法，通过对光致变色薄膜带在配向曝光之后的成像情况检测判断曝光异常，可以在配向曝光制程中直接检测曝光异常，防止出现批量曝光异常，同时可以防止曝光异常的产品后流导致其他材料浪费，节约了生产成本。

一种显示基板：包括：矩阵排列的多个图案化曝光区以及位于在图案化曝光区外的第一间隔区和第二间隔区，还包括位于第一间隔区内的光致变色薄膜带；所述第一间隔区沿第一方向排列且位于相邻的图案化曝光区之间，所述第二间隔区沿第二方向排列且位于相邻的图案化曝光区之间，第一方向和第二方向相互垂直。

优选的，所述光致变色薄膜带包括无机紫外光致变色材料。

优选的，所述无机紫外光致变色材料为过渡金属氧化物或稀土配合物。

优选的，所述光致变色薄膜带包括有机紫外光致变色材料。

优选的，所述有机紫外光致变色材料为螺吡喃类材料、俘精酸酐类材料或丙烯酸酯类材料。