[发明专利]ICP-MS微流雾化器清洗液及其疏通装置和疏通方法

说明书

本发明公开了一种ICP‑MS微流雾化器清洗液，包含体积比为1：1：1：5的氢氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、过氧化氢(H2O2)和纯水(DIW)。本发明还公开了一种利用所述ICP‑MS微流雾化器清洗液的ICP‑MS微流雾化器疏通装置和一种利用所述ICP‑MS微流雾化器清洗液的ICP‑MS微流雾化器疏通方法。本发明的清洗液对针对含硅基体，高盐基类，高浓度酸和碱等清洗疏通效果显著。本发明的ICP‑MS微流雾化器疏通装置和方法将清洗液反向(与微流雾化器工作流向相反)输入微流雾化器，利用蠕动泵的驱动使清洗液反复冲刷微流雾化器中的堵塞物，能有效疏通堵塞的微流雾化器。本发明的技术方案能延长微流雾化器的使用寿命，从而降低生产成本，提升产能。

技术领域

本发明涉及半导体领域，特别是涉及一种ICP-MS微流雾化器清洗液。本发明还涉及一种利用所述ICP-MS微流雾化器清洗液的ICP-MS微流雾化器疏通装置和一种利用所述ICP-MS微流雾化器清洗液的ICP-MS微流雾化器疏通方法。

背景技术

ICP-MS，全称Inductively coupled plasma mass spectrometry，指电感耦合等离子体质谱的意思。由ICP焰炬、接口装置、质谱仪组成。ICP-MS所用电离源是感应耦合等离子体(ICP)，它与原子发射光谱仪所用的ICP是一样的，其主体是一个由三层石英套管组成的炬管，炬管上端绕有负载线圈，三层管从里到外分别通载气，辅助气和冷却气，负载线圈由高频电源耦合供电，产生垂直于线圈平面的磁场。如果通过高频装置使氩气电离，则氩离子和电子在电磁场作用下又会与其它氩原子碰撞产生更多的离子和电子，形成涡流。强大的电流产生高温，瞬间使氩气形成温度可达10000k的等离子焰炬。样品由载气带入等离子体焰炬会发生蒸发、分解、激发和电离，辅助气用来维持等离子体，需要量大约为1L/min。冷却气以切线方向引入外管，产生螺旋形气流，使负载线圈处外管的内壁得到冷却，冷却气流量为10-15L/min。最常用的进样方式是利用同心型或直角型气动雾化器产生气溶胶，在载气载带下喷入焰炬，样品进样量大约为1mL/min，是靠蠕动泵送入雾化器的。

ICP-MS机台是分析金属污染的关键机台，雾化器是机台进样系统的主要耗材。雾化器的规格150μl/min，内径是0.1mm,样品通过雾化器之后变为液体雾滴，进行后续的分析。该ICP-MS机台的样品种类复杂，多为含硅基体，容易堵塞。雾化器的样品输入端的进样管大约1米，而且进样管内径很细，如果发生堵塞由于疏通困难，一般直接更换新的雾化器,造成测试分析成本的上升。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种能疏通ICP-MS微流雾化器的清洗液。本发明还提供了一种利用所述ICP-MS微流雾化器清洗液的ICP-MS微流雾化器疏通装置和一种利用所述ICP-MS微流雾化器清洗液的ICP-MS微流雾化器疏通方法。

为解决上述技术问题本发明提供的ICP-MS微流雾化器清洗液，包含：氢氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、过氧化氢(H₂O₂)和纯水(DIW)；

纯水(DIW)，一般是指经过初步离子交换/反渗透后离子含量比较低的水，没有具体的数值去定义。

氢氟酸(HF)、硝酸(HNO3)、过氧化氢(H₂O₂)和纯水(DIW)的体积比为(0.5-2)：(0.5-2)：(0.5-2)：(13-1)，优选体积比为1：1：1：5。

进一步改进所述ICP-MS微流雾化器清洗液，氢氟酸(HF)的浓度为49％。

进一步改进所述ICP-MS微流雾化器清洗液，硝酸(HNO3)的浓度为70％。

本发明提供一种上述述ICP-MS微流雾化器清洗液的ICP-MS微流雾化器疏通装置，包括：清洗液存储部、清洗液输送件和清洗驱动部；