[发明专利]图像传感器及其制造方法以及成像装置

权利要求书

1.一种图像传感器，其特征在于，包括：

像素衬底，包括感光单元结构；

在所述像素衬底之上的材料层，所述材料层包括与感光单元结构对应地设置的第一部分以及与第一部分相邻的第二部分，所述第一部分和第二部分的光学性质不同；以及

在所述材料层之上的滤色器层，

其中在与所述像素衬底垂直的方向看时，所述第一部分与对应的感光单元结构至少部分重叠地设置，以允许光通过所述第一部分进入对应的感光单元结构，并且

其中在与所述像素衬底垂直的方向看时，所述第二部分的至少一部分与和其相邻的第一部分对应的感光单元结构不重叠，所述第二部分改变入射到其的光的行进方向。

2.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，其中所述第二部分具有下列中的一个：

所述第二部分具有反射性，以反射入射到其的光；或者

所述第二部分具有比与其相邻的所述第一部分的折射率高的折射率，以折射入射进入其的光。

3.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，其中所述滤色器层包括在所述材料层之上的栅格结构以及被所述栅格结构分隔开的滤色器；

所述滤色器与所述感光单元结构对应地设置；

所述栅格结构与所述第二部分对应地设置。

4.如权利要求3所述的图像传感器，其特征在于，其中：

所述像素衬底包括多个感光单元结构；

所述滤色器层包括多个滤色器；

所述材料层包括多个所述第一部分；

每一个所述滤色器与一个所述感光单元结构对应地设置；并且

每一个所述第一部分与一个所述感光单元结构对应地设置。

5.如权利要求3所述的图像传感器，其特征在于，其中所述栅格结构包括：

在所述材料层之上的金属栅格；以及

覆盖所述金属栅格的顶面和侧面的介质层。

6.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，还包括：

在滤色器层之上的微透镜的阵列，所述微透镜与所述感光单元结构对应地设置。

7.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，其中：

所述材料层为叠层结构，所述叠层结构包括高k电介质的层以及硅的氮化物或硅的氧化物的层。

8.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，其中所述第一部分和第二部分具有相同的主体材料，所述第二部分还具有另外的离子。

9.如权利要求1所述的图像传感器，其特征在于，还包括：

附接到像素衬底的与所述材料层相反的一侧的附加衬底。

10.一种成像装置，其特征在于，包括如权利要求1-9中任一项所述的图像传感器。