[发明专利]真空装置、蒸镀装置及闸阀

说明书

本发明提供一种能够有效地抑制闸阀结露的真空装置。使用一种真空装置，该真空装置具有：内部空间为减压气氛的腔室；及将腔室的内部空间与外部空间分隔的闸阀，真空装置的特征在于，腔室包括具有开口的第一腔室壁，闸阀以覆盖开口的方式设置，沿着与第一腔室壁交叉的方向开闭，闸阀的第一面与温度比闸阀高的第一构件相向，闸阀的第二面与温度比闸阀低的第二构件相向，第一面的辐射率高于第二面的辐射率。

技术领域

本发明涉及真空装置、蒸镀装置及闸阀。

背景技术

在进行电子设备使用的显示面板或半导体、电子部件等的制造工序的真空装置中，使用将真空装置内形成为减压气氛的真空排气泵。在要求高真空状态的真空装置中，分开使用从大气压开始进行减压的真空排气泵和从减压了一定程度的状态开始利用低温形成为高真空状态的真空排气泵。

利用低温的真空排气泵设置于闸阀的腔室外部侧，该闸阀被配置成将设置在构成真空装置的腔室处的开口闭塞，该真空排气泵与闸阀的开闭相配合地控制大气的排气(专利文献1)。

【在先技术文献】

【专利文献】

【专利文献1】国际公开第2010/038416号

发明内容

【发明要解决的课题】

在以往的结构中，由于在闸阀侧配置有利用低温的真空排气泵，因此闸阀通过辐射冷却而成为低温。因此，在对腔室内进行大气开放时，存在闸阀结露的情况。

本发明的目的在于在闸阀侧配置有利用低温的真空排气泵的真空装置中，提供一种能够有效地抑制闸阀的结露的真空装置。

【用于解决课题的方案】

为了上述目的，本发明采用以下的结构。即，

一种真空装置，具有：

内部空间为减压气氛的腔室；及

将所述腔室的所述内部空间与外部空间分隔的闸阀，

所述真空装置的特征在于，

所述腔室包括具有开口的第一腔室壁，

所述闸阀以覆盖所述开口的方式设置，沿着与所述第一腔室壁交叉的方向开闭，

所述闸阀的第一面与温度比所述闸阀高的第一构件相向，

所述闸阀的第二面与温度比所述闸阀低的第二构件相向，

所述第一面的辐射率高于所述第二面的辐射率。

本发明还采用以下的结构。即，

一种真空装置，具有：

内部空间为减压气氛的腔室；及

将所述腔室的所述内部空间与外部空间分隔的闸阀，

所述真空装置的特征在于，

所述腔室包括具有开口的第一腔室壁和与所述第一腔室壁相向的第二腔室壁，

所述闸阀以覆盖所述开口的方式设置，沿着与所述第一腔室壁交叉的方向开闭，

所述闸阀的第一面与所述第二腔室壁相向，

所述闸阀的第二面与低温泵或低温冷阱相向，

所述第一面的辐射率高于所述第二面的辐射率。

本发明还采用以下的结构。即，

一种真空装置，具有：

内部空间为减压气氛的腔室；及