[发明专利]一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机有效
| 申请号: | 201810587447.1 | 申请日: | 2018-06-08 | 
| 公开(公告)号: | CN108642452B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 | 
| 发明(设计)人: | 李海涛;钱叶球;邢武装 | 申请(专利权)人: | 芜湖市亿仑电子有限公司 | 
| 主分类号: | C23C14/24 | 分类号: | C23C14/24;C23C14/50 | 
| 代理公司: | 北京风雅颂专利代理有限公司 11403 | 代理人: | 杨红梅 | 
| 地址: | 241000 *** | 国省代码: | 安徽;34 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 电容器 金属化 薄膜 加工 真空镀膜 | ||
本发明公开了一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机,包括真空镀膜箱,真空镀膜箱内设置有支撑组件、夹持组件、升降组件、翻转组件、镀膜组件、抽真空组件和密封组件,支撑组件包括两个支撑座,支撑座内部两端设置有支撑空腔,支撑空腔通过传动通道与支撑座表面相通,支撑空腔内设置有圆弧状的支撑滑槽,支撑滑槽的一端延伸出支撑空腔,支撑滑槽内滑动设置有支撑杆,支撑杆上设置有驱动齿条,支撑空腔内设置有与驱动齿条啮合的驱动齿轮,支撑座的上端面设置有传动架,传动架上设置有传动齿轮和与传动齿轮相连的支撑电机,传动齿轮与驱动齿轮之间连接有传动同步带,便于加工件地取放,减少加工件取放时间,提高镀膜加工效率。
技术领域
本发明涉及镀膜设备技术领域,具体为一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机。
背景技术
真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜,具体包括很多种类,包括真空离子蒸发,磁控溅射,MBE分子束外延,PLD激光溅射沉积等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。真空镀膜机需要镀膜的对象被称为工件(或基片),需要镀在工件上的材料被称为靶材,如硅靶、铌靶、铝靶、钛靶等。工件与靶材同在真空腔中。在真空条件下,通入一定气压的氩气,氩气在高电压(300-800V)电场作用下电离为氩离子,氩离子加速轰击靶材,从而将靶材材料溅射到工件表面,形成薄膜。
例如,申请号201610569203.1的中国发明专利公开了一种真空镀膜机,其工件架可跟随公转齿轮沿公转齿轮的圆周向方向公转,并且工件架在公转的同时,与其固定连接的自转齿轮在固定齿轮的作用下旋转,由于自动齿轮与转轴固定连接,因此,转轴以及工件架均能以转轴的轴心为中心进行自转。由于工件架能自转,因此,可以在工件架的侧面上均装载上工件,各侧面上的工件在自转过程中,均可旋转至与靶材相对的位置,从而各侧面上的工件均能完成镀膜。而现有的真空镀膜机的工件架不能自转,因此只能在其一侧面上装载工件,可见,相比于现有的真空镀膜机,本发明的真空镀膜机可以在工件架的各个侧面上装载工件,装炉量为现有镀膜机的三倍多,在一次镀膜作业中,能给更多的工件镀膜,提高了生产效率
但是,使用该真空镀膜机时,加工件地放置和取出较为麻烦,比较耽误时间,影响了工件镀膜的效率。
发明内容
为了克服现有技术方案的不足,本发明提供一种便于加工件地取放,减少加工件取放时间,提高镀膜加工效率的电容器金属化薄膜加工真空镀膜机,能有效的解决背景技术提出的问题。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:
一种电容器金属化薄膜加工真空镀膜机,包括真空镀膜箱,所述真空镀膜箱内设置有支撑组件、夹持组件、升降组件、翻转组件、镀膜组件、抽真空组件和密封组件;
所述支撑组件包括两个支撑座,所述支撑座内部两端设置有支撑空腔,所述支撑空腔通过传动通道与支撑座表面相通,所述支撑空腔内设置有圆弧状的支撑滑槽,所述支撑滑槽的一端延伸出支撑空腔,所述支撑滑槽内滑动设置有支撑杆,所述支撑杆上设置有驱动齿条,所述支撑空腔内设置有与驱动齿条啮合的驱动齿轮,所述支撑座的上端面设置有传动架,所述传动架上设置有传动齿轮和与传动齿轮相连的支撑电机,所述传动齿轮与驱动齿轮之间连接有传动同步带,所述传动同步带通过传动通道进入支撑空腔内。
进一步地,所述夹持组件包括设置在支撑座两端的夹持座,所述夹持座上设置有推动气缸,所述推动气缸的输出端连接有竖直的夹持板,所述夹持板的上下两端设置有固定架,两个所述的固定架之间连接有双向丝杠,其中一个所述的固定架上设置有与双向丝杠相连的丝杠驱动电机,所述双向丝杠上设置有两个丝杠螺母座,所述丝杠螺母组上设置有夹板。
进一步地,所述升降组件包括设置真空镀膜箱内壁两侧的升降滑轨,所述升降滑轨上滑动设置有升降滑座,所述升降滑轨上设置有升降齿条,所述升降滑座正对着升降滑轨的面上设置有齿条通过槽,所述升降滑座的上端设置有与升降齿条啮合的升降齿轮,所述升降齿轮连接有升降驱动电机。
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