[发明专利]基板收纳容器、控制装置和异常探测方法

权利要求书

1.一种基板处理装置，包括：

多个基板处理室，其用于在真空气氛下对基板进行处理；

真空搬送室，其用于在真空气氛下搬送所述基板；

加载模块，其用于在大气气氛下搬送所述基板；

加载端口，其连接于所述加载模块；

加载互锁室，其设置于所述真空搬送室与所述加载模块之间，并用于对所述大气气氛和所述真空气氛进行切换，来将所述基板在所述真空搬送室和所述加载模块之间进行搬送；

基板收纳容器，其用于收纳所述基板，并载置于所述加载端口；

监测器，用于检测所述基板收纳容器的内部的污染状态；以及

控制部，其用于执行如下处理：

在所述多个基板处理室的各基板处理室中对所述基板进行处理；

将处理后的基板经由所述真空搬送室、所述加载互锁室以及所述加载模块搬送到所述基板收纳容器；

利用所述监测器来检测所述基板收纳容器的内部的污染状态；以及

基于检测到的所述污染状态来执行恢复处理，

其中，所述恢复处理包括：将设置于所述基板收纳容器内的所述处理后的基板经由所述加载模块、所述加载互锁室以及所述真空搬送室搬送到所述多个基板处理室中的任一个，并清洁所述处理后的基板。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述监测器为晶体振荡器。

3.根据权利要求2所述的基板处理装置，其特征在于，

在所述晶体振荡器的表面预先覆盖有抗蚀剂、Si、SiO₂以及SiN中的任一种。

4.根据权利要求1至3中的任一项所述的基板处理装置，其特征在于，

所述监测器根据在基板处理室中进行基板的处理所使用的规定的气体的种类来设置于所述基板收纳容器的内部的上表面、下表面和侧面中的至少一个面。

5.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部在探测到异常的情况下进行错误通知。

6.根据权利要求1或5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部在探测到异常的情况下执行所述恢复处理。

7.根据权利要求1或5所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部参照累积有获取到的表示污染状态的信息的存储部，在基于累积的规定时间内的表示污染状态的所述信息而探测到所述基板收纳容器的内部的异常的情况下，执行所述恢复处理。

8.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

当在所述基板处理装置的外部探测到所述基板收纳容器的内部的异常的情况下，所述控制部执行如下的恢复处理：将探测到异常的所述基板收纳容器搬送到所述基板处理装置的加载端口、吹扫储存装置、前开式晶圆盒吹扫装置或前开式晶圆盒贮藏室，在所述加载端口、所述吹扫储存装置、所述前开式晶圆盒吹扫装置或前开式晶圆盒贮藏室中向所述基板收纳容器的内部导入非活性气体，或者执行如下的恢复处理：将探测到异常的所述基板收纳容器的内部的基板搬送到所述吹扫储存装置或前开式晶圆盒贮藏室，利用所述吹扫储存装置或前开式晶圆盒贮藏室将被搬送来的基板保持规定时间。

9.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部在所述恢复处理后基于获取到的表示污染状态的信息来再次探测所述基板收纳容器的内部的异常，在再次探测到所述异常的情况下，执行在所述基板处理室中利用规定的气体再次处理基板的恢复处理或者变更所述基板处理室中的基板的处理条件的恢复处理。

10.根据权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，

所述控制部在所述恢复处理后基于获取到的表示污染状态的信息来再次探测所述基板收纳容器的内部的异常，在再次探测到所述异常的情况下，利用检查基板的缺陷的装置来执行所述基板收纳容器的内部的基板的图案检查。