[发明专利]一种抛光粉回收工艺

说明书

本发明公开了一种抛光粉回收工艺，包括下述步骤：步骤一：沉降池的配置，在沉降池中充满水，加入丁基钠黄药、二苯硫脲，配置成沉降液体；步骤二：将回收的抛光粉混入碳化硅，一同进入到沉降池中进行沉降；步骤三：在沉降池的抛光粉中加入双氧水；步骤四：密闭沉降池，加热进行一次煅烧；步骤五：将一次煅烧完成的抛光粉在碾碎；步骤六：将碾碎的抛光粉升温，进行二次煅烧；步骤七：将二次煅烧的抛光粉浸泡至丙酮和水的混合溶液中；步骤八：通过高速离心将混合溶液和抛光粉进行分离；步骤九：将分离出来的颗粒状抛光粉进行干燥、研磨，得到回收抛光粉。通过本发明回收的抛光剂能够作为新的抛光剂同等效果进行使用。

技术领域

本发明涉及一种回收工艺，更具体的说是涉及一种抛光粉回收工艺。

背景技术

随着人们审美观点的变化和服装制造技术的不断发展，纽扣的装饰效果和功能性要求也越来越广泛。不饱和聚酯纽、塑料纽、木纽、果实纽、贝壳纽和金属钮等，各种材质的纽扣被广泛应用；浇片、制棍、注塑、滴胶等多种制纽工艺层出不穷。抛光是纽扣生产过程中的一个重要工序，抛光效率和抛光效果对生产周期和光饰效果及喷油等后加工处理产生重要影响。

纽胚经车纽工序后，表面往往平整度不好，表面光泽不均匀，甚至有一些毛刺。传统的纽扣抛光方法是采用滚筒抛光机进行水磨，利用抛光物料对纽扣表面的磨擦作用，将纽扣表面打磨光滑。对于高光泽的纽扣，则需要利用果壳糠、植物油、硅油或石蜡等进行干磨。滚筒抛光机的抛光效率较低，抛光耗时较长；水磨过程中，泡沫丰富，纽扣会漂浮起来，影响了抛光效果；水磨过程中需要多次清洗，自来水消耗量较大，造成水资源的浪费。

而且现有技术中，抛光大多采用颗粒细致的抛光粉进行抛光，而抛光粉在使用完后，不论是水磨还是干磨，最终都会被遗弃掉，但是这种颗粒又不能很好地回收，对环境造成污染。

发明内容

针对现有技术存在的不足，本发明的目的在于提供一种抛光粉回收工艺。

为实现上述目的，本发明提供了如下技术方案：

一种抛光粉回收工艺，

包括下述步骤：

步骤一：沉降池的配置，在沉降池中充满水，加入丁基钠黄药、二苯硫脲，配置成沉降液体；

步骤二：将回收的抛光粉混入碳化硅，一同进入到沉降池中进行沉降；

步骤三：在沉降池的抛光粉中加入双氧水；

步骤四：密闭沉降池，加热进行一次煅烧；

步骤五：将一次煅烧完成的抛光粉在碾碎；

步骤六：将碾碎的抛光粉升温，进行二次煅烧；

步骤七：将二次煅烧的抛光粉浸泡至丙酮和水的混合溶液中；

步骤八：通过高速离心将混合溶液和抛光粉进行分离；

步骤九：将分离出来的颗粒状抛光粉进行干燥、研磨，得到回收抛光粉。

作为本发明的进一步改进，

所述沉降池中的丁基钠黄药的浓度为15％；

所述沉降池中的二苯硫脲的浓度为10％。

作为本发明的进一步改进，

所述双氧水的浓度为60％，且双氧水用量为每4g碳化硅加入1L的双氧水。

作为本发明的进一步改进，

所述碳化硅的用量为回收抛光粉的5％～10％。

作为本发明的进一步改进，

所述步骤四中，一次煅烧温度为500～800℃，煅烧时间为3小时；