[发明专利]一种抛光粉回收工艺

权利要求书

1.一种抛光粉回收工艺，其特征在于：包括下述步骤：

步骤一：沉降池的配置，在沉降池中充满水，加入丁基钠黄药、二苯硫脲，配置成沉降液体；

步骤二：将回收的抛光粉混入碳化硅，一同进入到沉降池中进行沉降；

步骤三：在沉降池的抛光粉中加入双氧水；

步骤四：密闭沉降池，加热进行一次煅烧；

步骤五：将一次煅烧完成的抛光粉在碾碎；

步骤六：将碾碎的抛光粉升温，进行二次煅烧；

步骤七：将二次煅烧的抛光粉浸泡至丙酮和水的混合溶液中；

步骤八：通过高速离心将混合溶液和抛光粉进行分离；

步骤九：将分离出来的颗粒状抛光粉进行干燥、研磨，得到回收抛光粉。

2.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述沉降池中的丁基钠黄药的浓度为15％；

所述沉降池中的二苯硫脲的浓度为10％。

3.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述双氧水的浓度为60％，且双氧水用量为每4g碳化硅加入1L的双氧水。

4.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述碳化硅的用量为回收抛光粉的5％～10％。

5.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述步骤四中，一次煅烧温度为500～800℃，煅烧时间为3小时。

6.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述二次煅烧温度为600～1000℃，煅烧时间为2小时。

7.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述步骤七中，丙酮和水的混合溶液中，丙酮和水的质量比为1∶1。

8.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述高速离心转速为8000～30000r/min。

9.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述干燥温度为80℃，干燥时间为24小时。

10.根据权利要求1所述的一种抛光粉回收工艺，其特征在于：

所述研磨细度为400～800目。