[发明专利]一种合成albomycinδ1、δ2和ε的方法及其作为抗菌药物的应用

权利要求书

1.具有下式结构的化合物albomycinδ₁,δ₂和ε的合成方法，

其特征在于通过以下步骤合成；

步骤一，由i-1制备i-8；

步骤二，由ii-1分别制备ii-12、iii-8、iv-4；

步骤三，由i-8分别制备albomycinδ₁、δ₂和ε；

。

2.如权利要求1中所述的合成方法，其特征在于以化合物i-1为起始原料，经过氧化反应、酰化反应、脱保护、引入保护、多步缩合反应，羧基脱保护得到目标片断i-8。

3.如权利要求1中所述的合成方法，其特征在于以化合物ii-1为起始原料，经过多步硫糖转化反应，Pummerer反应，氧化，aldol缩合反应，氨基脱保护得到目标片断ii-12、iii-8和iv-4。

4.如权利要求1中所述的合成方法，其特征在于将得到的片段i-8分别与片段ii-12、iii-8和iv-4通过酰胺缩合反应，脱保护得到天然产物albomycinδ₁、δ₂和ε。

5.化合物albomycinδ₁、δ₂和ε在制备抗菌药物中的应用。

6.如权利要求5中所述的albomycinδ₁、δ₂和ε的应用，其特征在于作为对肺炎链球菌、金黄色葡萄球菌、枯草杆菌、大肠杆菌和淋球菌具有抑制作用的抗菌药物应用。

7.如权利要求6中所述的albomycinδ₁、δ₂和ε的应用，其特征在于作为对青霉素耐药的肺炎链球菌、对苯唑西林耐药的金黄色葡萄球菌、对青霉素耐药的枯草杆菌、青霉素耐药的大肠杆菌和淋球菌具有抑制作用的抗菌药物应用。