[发明专利]半导体封装及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201810554623.1 申请日: 2018-06-01
公开(公告)号: CN109427714B 公开(公告)日: 2023-09-08
发明(设计)人: 颜尤龙;陈光雄;梁心丞;徐沛妤 申请(专利权)人: 日月光半导体制造股份有限公司
主分类号: H01L23/482 分类号: H01L23/482;H01L23/31;H01L21/56;H01L23/488;H01L21/60
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 蕭輔寬
地址: 中国台湾高雄市楠梓*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 半导体 封装 及其 制造 方法
【权利要求书】:

1.一种半导体封装,其包括:

裸片;

电连接到所述裸片的经图案化导电层,所述经图案化导电层包括连接垫及迹线;

囊封层,其囊封所述裸片及所述经图案化导电层;

电连接元件,其安置在所述连接垫上;

保护层,其包括围绕所述电连接元件的至少部分的侧壁部分,

其中所述侧壁部分是第一部分,所述保护层进一步包括第二部分和第三部分,其中所述第二部分覆盖所述迹线,所述第三部分覆盖所述囊封层,且

其中所述第二部分的上表面与所述第三部分的上表面基本上不共面;

焊接材料;及

导电柱,其中所述裸片的有源表面电连接到所述导电柱,所述焊接材料安置在所述经图案化导电层与所述导电柱之间且与所述经图案化导电层与所述导电柱直接接触,

其中所述焊接材料的侧面、所述导电柱的侧面、所述裸片的侧面和所述经图案化导电层的侧面共面,且所述囊封层覆盖所述经图案化导电层的所述侧面、所述焊接材料的所述侧面、所述导电柱的所述侧面、所述裸片的所述侧面,

其中所述经图案化导电层的宽度与所述导电柱的宽度相同,且

其中所述经图案化导电层的所述宽度与所述焊接材料的宽度相同。

2.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述保护层的所述第二部分与所述迹线共形,且其中所述保护层的所述第三部分与所述囊封层共形,且其中所述保护层的所述第二部分及所述保护层的所述第三部分具有阶梯形状。

3.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述电连接元件具有低于所述囊封层的上表面的下表面。

4.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述保护层接触所述囊封层的上表面及内侧壁。

5.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述保护层接触且覆盖所述迹线。

6.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述侧壁部分具有弧形表面,其未与所述电连接元件接触。

7.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述电连接元件包括第一部分及第二部分,且其中所述电连接元件的所述第一部分嵌入在所述囊封层且所述电连接元件的所述第二部分被所述保护层围绕。

8.根据权利要求7所述的半导体封装,其中所述电连接元件的所述第二部分具有半球形状。

9.根据权利要求7所述的半导体封装,其中:

所述电连接元件的所述第二部分与所述经图案化导电层之间的第一最大距离为距离X;

所述保护层的所述侧壁部分与所述经图案化导电层之间的第二最大距离为距离Y;及

所述距离Y小于或等于所述距离X的一半。

10.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述保护层经安置抵靠所述电连接元件。

11.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述保护层安置在所述经图案化导电层上。

12.根据权利要求1所述的半导体封装,其中所述迹线及所述囊封层被所述保护层覆盖。

13.根据权利要求12所述的半导体封装,其中安置在所述囊封层上面的所述保护层具有在2微米(μm)至15μm范围内的厚度。

14.根据权利要求1所述的半导体封装,其中

所述经图案化导电层具有第一上表面且所述囊封层具有第二上表面,及

所述第二上表面不与所述第一上表面共面。

15.根据权利要求14所述的半导体封装,其中

所述经图案化导电层的第一上表面低于所述囊封层的第二上表面,及

所述保护层的部分嵌入在所述囊封层中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于日月光半导体制造股份有限公司,未经日月光半导体制造股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810554623.1/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top