[发明专利]底漆组成物与使用该底漆组成物的铜箔基板

权利要求书

1.一种底漆组成物，其特征在于，所述底漆组成物包括：

碳氢树脂与具有3个以上碳碳双键的化合物的混合物，其中所述碳氢树脂与所述具有3个以上碳碳双键的化合物的摩尔比介于1:0.2～1:10，其中所述碳氢树脂包括聚丁二烯、聚苯醚或其混合，且所述具有3个以上碳碳双键的化合物包括三甲代烯丙基异氰酸酯、甲基乙烯基环硅氧烷、四甲基四乙烯基环四硅氧烷、五甲基五乙烯基环五硅氧烷、八乙烯基八硅倍半氧烷或其混合。

2.如权利要求1所述的底漆组成物，其中所述聚丁二烯的重量平均分子量介于1000～8500之间。

3.如权利要求1所述的底漆组成物，还包括酮类溶剂与起始剂。

4.如权利要求3所述的底漆组成物，其中所述酮类溶剂包括丙酮、丁酮或其混合。

5.如权利要求3所述的底漆组成物，其中所述起始剂包括偶氮双异丁腈、二甲亚砜、过氧化二异丙苯、过氧化苯甲酰或其混合。

6.一种铜箔基板，其特征在于，所述铜箔基板包括：

铜箔；

氟化高分子层，位于所述铜箔的一表面上；

硅烷层，介于所述氟化高分子层与所述铜箔的所述表面之间；以及

底漆层，介于所述氟化高分子层与所述硅烷层之间，其中所述底漆层包含如权利要求1～5中任一所述的底漆组成物。

7.如权利要求6所述的铜箔基板，其中所述铜箔的所述表面具有2μm以下的十点平均粗糙度以及0.5μm以下的方均根粗糙度。

8.如权利要求6所述的铜箔基板，其中所述氟化高分子层的厚度小于1mm。

9.如权利要求6所述的铜箔基板，其中所述氟化高分子层包括聚四氟乙烯、氟化乙丙烯、可溶性聚四氟乙烯或四氯乙烯/全氟甲基乙烯醚。

10.如权利要求6所述的铜箔基板，其中所述底漆层的厚度小于2.5μm。

11.一种铜箔基板，其特征在于，所述铜箔基板包括：

第一铜箔；

第二铜箔；

氟化高分子层，位于所述第一铜箔与所述第二铜箔之间；

第一硅烷层，位于所述氟化高分子层与所述第一铜箔之间；

第一底漆层，位于所述氟化高分子层与所述第一硅烷层之间；

第二硅烷层，位于所述氟化高分子层与所述第二铜箔之间；以及

第二底漆层，位于所述氟化高分子层与所述第二硅烷层之间，其中

所述第一底漆层与所述第二底漆层包含如权利要求1～5中任一所述的底漆组成物。